微小パターンの作製方法及び作製装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：長尾達也
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998193791
Publication number (International publication number)：2000008166
Application date： Jun. 24, 1998
Publication date： Jan. 11, 2000
Summary：

【要約】【課題】本発明は、従来の光を用いた加工では作製できなかった100nm以下のオーダーの大きさの微細なパターン、特に導電性パターンを、基材上に直接描画し、安定的かつ速い速度で作製する微小パターンの作製方法及び作製装置を提供することを目的としている。【解決手段】本発明は、光プローブによって基材上に微細なパターンを形成する微小パターン作製方法または装置であって、光プローブに設けられた微小開口より照射する照射光によって、材料ガスを光化学反応により分解し、その分解生成物を基材上に供給して微細なパターンを形成することを特徴とするものである。

Claim (excerpt)：

光プローブに設けられた微小開口より照射する照射光によって、材料ガスを光化学反応により分解し、その分解生成物を基材上に供給して微細なパターンを形成することを特徴とする微小パターンの作製方法。

IPC (4)：

C23C 16/04 , C23F 4/00 , G01N 13/14 , H01L 21/205

FI (4)：

C23C 16/04 , C23F 4/00 A , G01N 37/00 D , H01L 21/205

F-Term (29)：

4K030AA03 , 4K030AA11 , 4K030AA12 , 4K030AA20 , 4K030BA01 , 4K030BA26 , 4K030BA40 , 4K030BB11 , 4K030CA04 , 4K030DA08 , 4K030EA05 , 4K030EA06 , 4K030FA06 , 4K030FA07 , 4K030KA36 , 4K030KA47 , 4K030LA15 , 4K057DA11 , 4K057DB06 , 4K057DB11 , 4K057DB15 , 4K057DE08 , 4K057WB06 , 4K057WE21 , 5F045AA12 , 5F045AC08 , 5F045DP04 , 5F045EK12 , 5F045HA13

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

光アシストパターン形成方法および装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-121300 Applicant：日本電気株式会社
光リソグラフィ方法及び装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-249138 Applicant：株式会社日立製作所
特開平2-156086

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