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J-GLOBAL ID：200903043080864007

ネジ式締め固定具用の緩み止め剤組成物

Inventor：
高島 芳計

About 高島 芳計

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兼子 正宏

About 兼子 正宏

, 
三村 義行

About 三村 義行


Applicant, Patent owner：
株式会社ニッセイテクニカ

About 株式会社ニッセイテクニカ


Agent (1)： 八木田 茂 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999189485
Publication number (International publication number)：2001011380
Application date： Jul. 02, 1999
Publication date： Jan. 16, 2001
Summary：
【要約】 (修正有)【課題】 常温で塗着でき、また大きな摩擦抵抗力を発揮でき且つ均一な膜厚をもち柔軟性、弾性、強靱性、防湿性および密封性が高い被膜をネジ山部、谷部の面に形成できる非接着剤型の新規なプレコート用緩み止め剤を提供する。【解決手段】 三次元網状ポリシロキサン構造の構造単位として、式 CH3SiO3/2 ,(CH3)2SiO ,C6H5SiO3/2,(C6H5)(CH3)SiOおよび(C6H5)SiO (但しCH3 はメチル基、C6H5はフェニル基を示す)の基を組合わせて含有する平均分子量1万〜30万のメチルフェニルシリコーン・レジン、あるいは式SiO2,(CH3)2SiO1/2,CH3SiO3/2 および(CH3)2SiO (但しCH3 はメチル基、C6H5はフェニル基を示す)の基を組合わせて含有する平均分子量1万〜30万のメチルシリコーン・レジンの5〜80重量%を、揮発性有機溶剤の20〜95重量%に溶解して得られた溶液またはゲル状物よりなる。
Claim (excerpt)：
三次元網状ポリシロキサン構造の構造単位として、式CH3SiO3/2 ,(CH3)2SiO ,C6H5SiO3/2,(C6H5)(CH3)SiOおよび(C6H5)SiO (但しCH3 はメチル基、C6H5はフェニル基を示す)の基を組合わせて含有する平均分子量1万〜30万のメチルフェニルシリコーン・レジン、あるいは式 SiO2,(CH3)2SiO1/2,CH3SiO3/2 および(CH3)2SiO (但しCH3 はメチル基、C6H5はフェニル基を示す)の基を組合わせて含有する平均分子量1万〜30万のメチルシリコーン・レジンの5〜80重量%を、揮発性有機溶剤の20〜95重量%に溶解して得られた溶液またはゲル状物よりなることを特徴とする、ネジ式締め固定具用の非接着剤型緩み止め剤組成物。
IPC (5)：
C09D183/04 ,  B05D 7/24 302 ,  C09J183/04 ,  F16B 33/06 ,  F16B 39/22
FI (5)：
C09D183/04 ,  B05D 7/24 302 Y ,  C09J183/04 ,  F16B 33/06 E ,  F16B 39/22 B
F-Term (22)：
4D075DA11 ,  4D075DB02 ,  4D075DC16 ,  4D075EA35 ,  4D075EB42 ,  4D075EC03 ,  4D075EC11 ,  4D075EC30 ,  4D075EC35 ,  4D075EC54 ,  4J038DL031 ,  4J038HA446 ,  4J038KA06 ,  4J038KA08 ,  4J038KA09 ,  4J038KA20 ,  4J038MA14 ,  4J040EK031 ,  4J040KA23 ,  4J040KA31 ,  4J040KA42 ,  4J040LA01
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3) Cited by examiner (3)

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