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J-GLOBAL ID：200903043114727594

熱処理炉の雰囲気制御方法及び装置

Inventor： 内藤 武志 ,  荻原 宏一 ,  若月 章宏 ,  中広 伊孝 ,  井上 英樹 ,  中嶋 良男
Applicant, Patent owner： 同和鉱業株式会社
Agent (1)： 澤木 誠一 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997048598
Publication number (International publication number)：1998226871
Application date： Feb. 18, 1997
Publication date： Aug. 25, 1998
Summary：

【要約】【課題】 従来の熱処理炉の雰囲気制御方法及び装置においては、浸炭時間が長く、粒界酸化が増大する欠点があった。【解決手段】 本発明の熱処理炉の雰囲気制御方法及び装置においては、炉内に炭化水素系ガスと酸化性ガスとを供給しながら浸炭を行い炉内の残留CH4 、酸化性ガスの分圧及びCO分圧を測定し、これらの何れかの値に応じて上記各ガスの供給量を制御せしめる。

Claim (excerpt)：

炉内に炭化水素系ガスと酸化性ガスとを供給しながら浸炭を行い、炉内のCO分圧が設定値に達したとき、上記酸化性ガスの供給を停止することを特徴とする熱処理炉の雰囲気制御方法。

IPC (2)：

C23C 8/20 ,  C21D 1/76

FI (2)：

C23C 8/20 ,  C21D 1/76 J

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 真空浸炭方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-330688   Applicant：日本精工株式会社
• 特開昭63-199859
  
• 金属部材を浸炭又は浸炭窒化する炉雰囲気のCO含有量を制御する方法と装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-108500   Applicant：イプセン・インダストリーズ・インターナショナル・ゲーエムベーハー
• 特開昭60-114565
  
• 特開平4-083818