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J-GLOBAL ID：200903043173035795

水素製造装置

Inventor：
安田 勇

About 安田 勇

, 
白▲さき▼ 義則

About 白▲さき▼ 義則

, 
高橋 徹

About 高橋 徹

, 
常木 達也

About 常木 達也


Applicant, Patent owner：
東京瓦斯株式会社

About 東京瓦斯株式会社


Agent (1)： 加茂 裕邦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002313978
Publication number (International publication number)：2004149332
Application date： Oct. 29, 2002
Publication date： May. 27, 2004
Summary：
【課題】従来では必須であった粒状等の改質触媒を不要とし、従来の水素製造装置に比べて格段に単純化し、小型化できるなど各種有用な効果が得られる水素製造装置、そのための円筒型反応管及び平板型反応板を得る。【解決手段】円筒状改質触媒兼支持体と、該改質触媒兼支持体の外周面又は内周面に水素透過膜を配置してなり、円筒状改質触媒兼支持体の内側に原料ガスを通して円筒状改質触媒兼支持体で改質ガスを生成し、改質ガスを水素透過膜により精製して高純度水素を製造するようにしてなる水素製造装置、およびそのための円筒型反応管。改質触媒兼支持体を平板状とし、平板型反応板として構成してもよい。【選択図】図3
Claim (excerpt)：
円筒状改質触媒兼支持体と、該改質触媒兼支持体の外周面に水素透過膜を配置してなり、円筒状改質触媒兼支持体の内側に原料ガスを通して円筒状改質触媒兼支持体で改質ガスを生成し、改質ガスを水素透過膜により精製して高純度水素を製造するようにしてなることを特徴とする水素製造装置。
IPC (8)：
C01B3/40 ,  B01D53/22 ,  B01D69/04 ,  B01D69/06 ,  B01D69/10 ,  B01D71/02 ,  B01J19/24 ,  C01B3/56
FI (8)：
C01B3/40 ,  B01D53/22 ,  B01D69/04 ,  B01D69/06 ,  B01D69/10 ,  B01D71/02 500 ,  B01J19/24 A ,  C01B3/56 Z
F-Term (40)：
4D006GA41 ,  4D006MA02 ,  4D006MA03 ,  4D006MA09 ,  4D006MC02X ,  4D006NA50 ,  4D006PA02 ,  4D006PB20 ,  4D006PB66 ,  4D006PC69 ,  4G075AA03 ,  4G075BA05 ,  4G075BB05 ,  4G075CA02 ,  4G075CA51 ,  4G075CA54 ,  4G075DA02 ,  4G075EB21 ,  4G075EC09 ,  4G075EE02 ,  4G075EE12 ,  4G075EE23 ,  4G075FA12 ,  4G075FA14 ,  4G075FB02 ,  4G075FC02 ,  4G140EA03 ,  4G140EA06 ,  4G140EB19 ,  4G140EB23 ,  4G140EB37 ,  4G140EB46 ,  4G140EB48 ,  4G140EC02 ,  4G140EC08 ,  4G140FA02 ,  4G140FB09 ,  4G140FC01 ,  4G140FE01 ,  4G140FE06
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
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Cited by examiner (9)
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