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J-GLOBAL ID:200903043338337120
成膜装置の内壁堆積物検出方法及び監視装置付き成膜装置
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
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Agent (1):
近島 一夫 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000266349
Publication number (International publication number):2002069648
Application date: Sep. 01, 2000
Publication date: Mar. 08, 2002
Summary:
【要約】【課題】 CVD法、特にCat-CVD法による成膜は、チェンバー内壁に付着する堆積物の影響で再現性が充分でない。【解決手段】 原料ガス(SiH4 とH2 )の内水素ガスを、成膜と同じ条件で供給し、該水素ガスを加熱触媒体により分解して発生した水素原子(H)にてチェンバー内壁の堆積物をエッチングする。該エッチング副生成物を基板ホルダー9に設けた吸込み口11より抽出して、分析計10によりその量を測定することに基づき、内壁堆積物を検出する。更に、上記検出信号を規定値と比較することにより、成膜作業中におけるクリーニング時期、又はクリーニング作業中におけるクリーニング終期を判断する。
Claim (excerpt):
原料ガスをプロセスチェンバー内に供給し、該原料ガスを分解手段により分解して、該分解にて生成された堆積種を基板に堆積して薄膜を生成すると共に、前記チェンバー内壁にも堆積物が生成して付着してなる、化学気相成長法による成膜装置において、前記分解手段によって前記原料ガスの少なくとも一部を分解することにより生じる所定分解種が、前記チェンバー内壁の堆積物をエッチングする作用を有し、前記チェンバー内のガスを分析し、前記所定分解種による前記チェンバー内壁の堆積物のエッチング作用に基づき発生するエッチング副生成物を検出することにより、前記チェンバー内壁の堆積物の量を検出する、ことを特徴とする成膜装置の内壁堆積物検出方法。
IPC (3):
C23C 16/44
, H01L 21/205
, H01L 21/3065
FI (3):
C23C 16/44 J
, H01L 21/205
, H01L 21/302 N
F-Term (28):
4K030AA06
, 4K030AA13
, 4K030AA17
, 4K030BA28
, 4K030BA29
, 4K030BA30
, 4K030BA40
, 4K030DA06
, 4K030DA08
, 4K030FA10
, 4K030KA39
, 4K030KA43
, 5F004AA15
, 5F004BA19
, 5F004BB28
, 5F004CB04
, 5F004DA24
, 5F004DB00
, 5F045AA03
, 5F045AB04
, 5F045AB07
, 5F045AB33
, 5F045AC01
, 5F045AC12
, 5F045BB15
, 5F045EB06
, 5F045EK07
, 5F045GB02
Patent cited by the Patent: