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J-GLOBAL ID：200903043351538852
金属含有シロキサン系ポリマおよび光導波路
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998209772
Publication number (International publication number)：2000039529
Application date： Jul. 24, 1998
Publication date： Feb. 08, 2000
Summary：
【要約】【課題】 シロキサン系ポリマ膜は吸湿により屈折率が経時的に変化してしまい、それを用いた光導波路の特性が劣化して耐環境性に劣るものであった。【解決手段】 シロキサン系ポリマの主鎖骨格のシリコンに対して原子数比で1/(金属の原子価)%以上の金属原子を含有させ、末端基のうち水酸基の占める割合を1%未満とした金属含有シロキサン系ポリマである。また、この金属含有シロキサン系ポリマから成るクラッド部2・8内にこのクラッド部2・8よりも屈折率が0.1 %以上大きな金属含有シロキサン系ポリマから成るコア部7を形成した光導波路である。吸湿による屈折率の経時的な変化が抑制され、耐環境性に優れた高信頼性のシロキサン系ポリマおよび光導波路が得られる。
Claim (excerpt)：
シロキサン系ポリマの主鎖骨格のシリコンに対して原子数比で1/(金属の原子価)%以上の金属原子を含有させ、末端基のうち水酸基の占める割合を1%未満としたことを特徴とする金属含有シロキサン系ポリマ。
IPC (2)：
FI (2)：
F-Term (10)：
2H047AA03
, 2H047EE02
, 2H047EE28
, 2H047GG05
, 4J035CA01K
, 4J035FB10
, 4J035HA05
, 4J035LA03
, 4J035LB17
, 4J035LB20
