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J-GLOBAL ID:200903089461583276

シロキサン系ポリマを用いた光導波路の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996042520
Publication number (International publication number):1997236719
Application date: Feb. 29, 1996
Publication date: Sep. 09, 1997
Summary:
【要約】【課題】 シロキサン系ポリマ膜から成る光導波路を作製するに当たって、屈折率を容易にかつきめ細かく制御することが困難であった。【解決手段】 金属アルコキシドを添加したシロキサン系ポリマ膜形成用溶液を用い、基板上で熱重合させて金属含有シロキサン系ポリマ膜から成る光導波路を形成する。これにより、屈折率を容易にかつきめ細かく制御でき、膜の平坦性・基板との密着性・半田耐熱性に優れた光導波路を簡単な設備で短時間に作製できる。
Claim (excerpt):
金属アルコキシドを添加したシロキサン系ポリマ膜形成用溶液を基板上で熱重合させて金属含有シロキサン系ポリマ膜から成る光導波路を形成することを特徴とするシロキサン系ポリマを用いた光導波路の製造方法。
IPC (4):
G02B 6/13 ,  C08G 77/04 NUA ,  C09D183/04 PMT ,  G02B 6/12
FI (4):
G02B 6/12 M ,  C08G 77/04 NUA ,  C09D183/04 PMT ,  G02B 6/12 N
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (4)
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Cited by examiner (4)
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