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J-GLOBAL ID：200903043392690871

三次元計測装置

Inventor：
在間 尚洋

About 在間 尚洋

, 
高木 憲三

About 高木 憲三


Applicant, Patent owner：
シーケーディ株式会社

About シーケーディ株式会社


Agent (1)： 川口 光男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000171729
Publication number (International publication number)：2001349710
Application date： Jun. 08, 2000
Publication date： Dec. 21, 2001
Summary：
【要約】【課題】計測対象物の三次元形状を位相シフト法を用いて計測するに際し、ハレーション等による不具合を抑制し、計測精度をより高めることを可能とする。【解決手段】印刷状態検査装置1は、クリームハンダCの印刷されてなるプリント基板Kを載置するためのテーブル2と、プリント基板Kの表面に対し斜め上方から正弦波状の複数の位相変化する光パターンを照射するための照明装置3と、プリント基板K上の前記照射された部分を撮像するための撮像手段を構成するCCDカメラ4とを備えている。照明装置3は、テーブル2の中心とコーナー部とを結ぶ直線上に配置されており、プリント基板Kの辺方向に対し、平面視斜め45度の方向から光パターンを照射する。従って、クリームハンダCの延びる方向に対し、45度傾いた線に沿って照度が正弦波状に変化する縞状の光パターンが照射される。
Claim (excerpt)：
略矩形状をなす基板本体上に設けられた長尺状の計測対象物に対し、略正弦波状の光強度分布を有する光パターンを照射可能な照射手段と、計測対象物を撮像可能な撮像手段と、前記計測対象物と、前記光パターンとの相対位相関係を変化させる位相変化手段と、前記位相変更手段により変化させられた複数通りの相対位相関係下において前記撮像手段にて撮像された複数通りの画像データに基づき、位相シフト法により少なくとも前記計測対象物の所定の高さを演算する演算手段とを備え、前記照射手段にて照射される光パターンが、前記基板本体の各辺に対し斜めとなるよう構成したことを特徴とする三次元計測装置。
IPC (4)：
G01B 11/24 ,  G01B 11/02 ,  G06T 1/00 315 ,  H05K 3/34 512
FI (4)：
G01B 11/02 H ,  G06T 1/00 315 ,  H05K 3/34 512 B ,  G01B 11/24 K
F-Term (28)：
2F065AA24 ,  2F065AA53 ,  2F065CC01 ,  2F065CC26 ,  2F065DD12 ,  2F065FF04 ,  2F065HH06 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL25 ,  2F065LL30 ,  2F065MM03 ,  2F065PP12 ,  5B057AA03 ,  5B057BA02 ,  5B057BA15 ,  5B057CA12 ,  5B057CA16 ,  5B057CB13 ,  5B057CB17 ,  5B057DA17 ,  5B057DB02 ,  5B057DC02 ,  5B057DC23 ,  5E319AC17 ,  5E319BB05 ,  5E319CD29 ,  5E319CD52
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2) Cited by examiner (1)
  • 積荷位置姿勢認識装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-252173   Applicant：株式会社新潟鉄工所

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