Pat
J-GLOBAL ID:200903043400229798
ダイオードレーザをベースとした測定装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
大竹 正悟
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2000548711
Publication number (International publication number):2002514757
Application date: May. 14, 1999
Publication date: May. 21, 2002
Summary:
【要約】【課題】レーザダイオード等の光源の不均一な光線のプロフィールを調整することにより光の散乱と蛍光の精確な測定を提供するための方法、装置を提供する。【解決手段】S10で、レーザダイオードは光線プロフィールが測定装置の流路を横切ってガウス型になり流路に沿っては任意に未知のプロフィールになるように置かれる。S20で、蛍光染料の100%の濃度の均一なサイズの参照ミクロスフィアが流路に沿って流れセル中を通されて光を受ける。S30で、参照イベントが各ミクロスフィアに対してX軸に時間単位をY軸に蛍光強度の単位を有する二次元グラフ上にプロットされる。S40で、レーザダイオードに対するテンプレートは参照イベントの一連の時間合わせされた蛍光強度のプロット平均値を有するように決められる。S50で、蛍光参照イベントが測定装置を使用して捕捉される。S60で、サンプルイベントは時間的に位置合わせされるまたはテンプレートの上に重ねられる。S70で、サンプルイベントは標準化されテンプレートと比較される。S80で、標準化されたサンプルイベントは積分されてサンプル中の総蛍光量が決定される。
Claim (excerpt):
コンピュータと通信可能なそして流路と前記流路を横切るガウス型第一光線のプロフィールと前記流路に沿った第二の光線のプロフィールを有する光源を有する測定装置;そして コンピュータにより読み取り可能なそしてコンピュータにより実行可能なコンピュータ指令を保存するメモリー媒体を有し、コンピュータ指令が (a)第二の光線のプロフィールを示すテンプレートを作ること; (b)前記測定装置で測定した蛍光サンプルイベントを捕捉すること; (c)サンプルイベントをテンプレートに時間的な位置合わせすること; (d)サンプルイベントをテンプレートに対して標準化すること:および (e)標準化したサンプルイベントを積分しサンプルイベント中の蛍光の総量を決定することからなる診断システム。
IPC (2):
FI (2):
G01N 21/64 F
, G01N 21/49 Z
F-Term (42):
2G043AA01
, 2G043BA16
, 2G043CA03
, 2G043DA02
, 2G043DA05
, 2G043EA01
, 2G043EA14
, 2G043GA07
, 2G043GB19
, 2G043HA01
, 2G043HA02
, 2G043HA09
, 2G043HA15
, 2G043JA02
, 2G043KA09
, 2G043LA01
, 2G043LA02
, 2G043MA16
, 2G043NA01
, 2G043NA06
, 2G059AA01
, 2G059BB04
, 2G059CC16
, 2G059DD03
, 2G059DD12
, 2G059EE02
, 2G059EE07
, 2G059GG01
, 2G059JJ02
, 2G059JJ11
, 2G059JJ12
, 2G059JJ13
, 2G059JJ22
, 2G059KK01
, 2G059KK02
, 2G059KK03
, 2G059MM01
, 2G059MM03
, 2G059MM10
, 2G059NN10
, 2G059PP04
, 2G059PP06
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (5)
-
分析装置のための電気的システム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-218282
Applicant:バイヤーコーパレイシャン
-
流動粒子分析装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-328552
Applicant:住友電気工業株式会社
-
流体の光学検査のための、特に血液学的分析のための装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-130446
Applicant:アベイクス
-
粒度分布測定装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-057804
Applicant:株式会社島津製作所
-
特開平3-200049
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Cited by examiner (5)
-
分析装置のための電気的システム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-218282
Applicant:バイヤーコーパレイシャン
-
流動粒子分析装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-328552
Applicant:住友電気工業株式会社
-
流体の光学検査のための、特に血液学的分析のための装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-130446
Applicant:アベイクス
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粒度分布測定装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-057804
Applicant:株式会社島津製作所
-
特開平3-200049
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