Pat

J-GLOBAL ID：200903043582531060

固体塩基触媒を用いた有機ケイ素高分子の製造方法

Inventor： 伊藤 正義 ,  三塚 雅彦 ,  岩田 健二 ,  井上 浩二 ,  内海 哲良
Applicant, Patent owner： 三井東圧化学株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993236445
Publication number (International publication number)：1995090085
Application date： Sep. 22, 1993
Publication date： Apr. 04, 1995
Summary：

【要約】【目的】 塩基性金属酸化物を触媒に用いて、ジヒドロシラン化合物とジエチニル化合物とから脱水素反応によって有機ケイ素高分子を合成する。【構成】 分子内に少なくとも2個のSi-H結合を有する有機ケイ素化合物と、分子内に少なくとも2個のH-C≡C結合を有する化合物とを、アルカリ土類金属酸化物に代表される塩基性金属酸化物を触媒に用いて脱水素反応させることを特徴とする有機ケイ素高分子の製造方法。【効果】 合成および触媒除去が簡単な製造法により、容易に有機ケイ素高分子を製造することができる。

Claim (excerpt)：

分子内に少なくとも2個のSi-H結合を有する有機ケイ素化合物と、分子内に少なくとも2個のH-C≡C結合を有する化合物とを、塩基性金属酸化物の存在下で脱水素反応させることを特徴とする、分子主鎖の繰り返し部分にSi-C≡C結合を有する有機ケイ素高分子化合物の製造方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 有機ケイ素高分子およびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-043596   Applicant：三井東圧化学株式会社