エバネッセント光発生装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007037065
Publication number (International publication number)：2008202993
Application date： Feb. 16, 2007
Publication date： Sep. 04, 2008
Summary：

【課題】複雑な光学系を用いずに、波長帯が中遠赤外域及び紫外域のエバネッセント光の発生を可能とする光学装置を提供することである。【解決手段】非線形光学素子により光学プリズムを形成して波長変換と変換光が出射面で全反射を起こすような配置で面をつくりつけ、当該面上にエバネッセント光を発生させる構成とすることにより実現する。2つの波長の異なるレーザ光等を当該非線形光学素子へ入射させ、2つの波長の和周波数及び差周波数を発生させることにより、波長変換を行う。これら変換光の出射部において、変換光を全反射させ、全反射面表面にエバネッセント光を発生させる。あるいは、当該素子非線形光学素子へ1波長の光を導入した場合でも高調波を発生させ、当該高調波のエバネッセント光を発生させる。また、当該非線形光学素子として擬似位相整合となる構造をもつ素子により、エバネッセント光を発生させる。【選択図】図3

Claim (excerpt)：

光学素子における光の全反射を用いてエバネッセント光を発生させる光学装置において、光の全反射を発生させる光学素子を非線形光学素子とし、当該非線形光学素子に2波長以上の光を導入して、波長変換された光のエバネッセント光を発生させる事を特徴とする光学装置。

IPC (2)：

G01N 13/14 , G02F 1/377

FI (2)：

G01N13/14 , G02F1/377

F-Term (6)：

2K002AA04 , 2K002AB12 , 2K002BA01 , 2K002CA03 , 2K002EA07 , 2K002EA30

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

原子間力顕微鏡一体型フォトン走査型トンネル顕微鏡
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-312547 Applicant：株式会社ニコン
特開平3-278014号公報
走査型近接場光学顕微鏡
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-202909 Applicant：株式会社ニコン

Show all

Return to Previous Page