ファイバグレ-ティング作製方法及び作製装置

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：前田弘 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999076971
Publication number (International publication number)：2000089045
Application date： Mar. 19, 1999
Publication date： Mar. 31, 2000
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】波長特性の短波長側へのシフト制御と高張力印加を可能として波長特性の制御範囲の拡大化を図り波長制御されたファイバグレーティングの作製装置を提供する。【解決手段】紫外線透過型樹脂により被覆層が形成された光ファイバ心線1の紫外レーザ光照射領域を挟んでファイバ軸方向両側部分を一対の巻胴34,35に互いに重ならないように巻き付け、相対移動しないように固定し、一方の巻胴35をパルスモータにより軸Yの回りに設定回転量だけ強制回転させて張力を印加し、コアに所定の伸び歪みが生じた状態にする(張力印加工程)。この状態で位相マスクを介して紫外レーザ光を被覆層の上から照射してコアにグレーティングを書き込み(照射工程)、モータを逆回転させて伸び歪みを解放させ光ファイバ心線を元の状態まで収縮させてグレーティングピッチを狭くさせ(張力解放工程)再度、試験用張力を印加してスクリーニング工程を行う。

Claim (excerpt)：

コアおよびクラッドを有するファイバ心線を用意する工程と、前記ファイバ心線の第1領域に第1張力を印加することによって、ファイバ軸方向に第1引張歪みを生じさせる第1張力印加工程と、前記第1引張歪みが生じた状態の前記ファイバ心線に紫外線を照射することによって、ファイバ軸方向に第1のピッチを有する第1グレーティングを前記ファイバ心線の前記第1領域内の前記コアに書き込む第1照射工程と、前記第1張力を解放することによって前記コアに書き込まれた前記第1グレーティングの第1ピッチを短波長側にシフトする第1張力解放工程と、を包含するファイバグレーティング作製方法。

IPC (2)：

G02B 6/10 , G02B 6/00 306

FI (2)：

G02B 6/10 C , G02B 6/00 306

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

ファイバグレーティングの製造方法及び製造装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-092507 Applicant：住友電気工業株式会社
長周期グレーティングの作成方法及び光導波路
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-278107 Applicant：住友電気工業株式会社
特表平6-501783

Show all

Return to Previous Page