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J-GLOBAL ID:200903043658276278
触媒の製造方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (6):
社本 一夫
, 小野 新次郎
, 小林 泰
, 千葉 昭男
, 富田 博行
, 中田 尚志
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2008511799
Publication number (International publication number):2008540114
Application date: May. 09, 2006
Publication date: Nov. 20, 2008
Summary:
触媒の支持体を硝酸コバルトに含浸させることによって形成されるコバルト触媒前駆体中の硝酸塩含量を低くする方法であって、該含浸させた支持体を空気中で焼成し、部分的に脱窒させること、その後、不活性ガス中に0.1〜10体積%の水素を含むガス混合物の存在下で、焼成された含浸させた支持体を250°C未満の温度に加熱することを含む前記方法を説明する。
Claim (excerpt):
触媒の支持体を硝酸コバルトに含浸させることによって形成されるコバルト触媒前駆体中の硝酸塩含量を低くする方法であって、該含浸させた支持体を空気中で焼成し、部分的に脱窒させること、その後、不活性ガス中に0.1〜10体積%の水素を含むガス混合物の存在下で、焼成された含浸させた支持体を250°C未満の温度に加熱すること、を含む、前記方法。
IPC (2):
FI (2):
B01J23/74 311M
, B01J37/08
F-Term (11):
4G169AA03
, 4G169AA08
, 4G169BC67A
, 4G169BC67B
, 4G169CC23
, 4G169DA03
, 4G169EA01Y
, 4G169FB14
, 4G169FB20
, 4G169FB30
, 4G169FB44
Patent cited by the Patent:
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