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J-GLOBAL ID：200903043699875755

光コヒーレンストモグラフィーの改良型フィゾー干渉計の設計

Inventor： タタム, ラルフ, ピーター ,  ジェームズ, ステファン, ウェイン
Applicant, Patent owner： クランフィールド ユニヴァーシティ
Agent (2)： 園田 吉隆 ,  小林 義教
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2004501920
Publication number (International publication number)：2005524834
Application date： May. 02, 2003
Publication date： Aug. 18, 2005
Summary：

光コヒーレンストモグラフィーのための新規の干渉計設計が複数記載されている。これらの干渉計は、光効率が、光コヒーレンストモグラフィーシステム固有の信号対雑音比の不足を克服するように設計されている。

Claim (excerpt)：

光源、走査手段、検出手段及び光サーキュレーション手段を備えた光コヒーレンストモグラフィー装置であって、前記光サーキュレーション手段が、光源と検出手段の間の光路上に位置しており、且つ光源から放出された光を試料及び走査手段の両方へ方向付けるように配置されている装置。

IPC (3)：

G01N21/17 ,  A61B10/00 ,  G01B9/02

FI (3)：

G01N21/17 620 ,  A61B10/00 E ,  G01B9/02

F-Term (29)：

2F064AA09 ,  2F064CC01 ,  2F064EE01 ,  2F064EE05 ,  2F064FF03 ,  2F064GG00 ,  2F064GG02 ,  2F064GG12 ,  2F064GG22 ,  2F064GG24 ,  2F064GG52 ,  2F064HH01 ,  2F064HH05 ,  2F064HH06 ,  2F064JJ01 ,  2G059AA05 ,  2G059AA06 ,  2G059BB20 ,  2G059CC16 ,  2G059EE02 ,  2G059EE12 ,  2G059FF02 ,  2G059GG10 ,  2G059HH01 ,  2G059JJ15 ,  2G059JJ17 ,  2G059JJ22 ,  2G059KK01 ,  2G059NN06

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 光イメージング装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-028231   Applicant：ユニバーシティーホスピタルオブクリーブランド, オリンパス光学工業株式会社
• 光断層診断装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-159270   Applicant：オリンパス光学工業株式会社
• 相反光学素子を用いた光コヒーレンス領域反射測定法および光コヒーレンス断層撮影法のための干渉計
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2000-570524   Applicant：イザット,ジョセフエイ., ローリンズ,アンドリューエム.
• 光ファイバ干渉計
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2001-540322   Applicant：イマラックス・コーポレーション

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• OPTICS LETTERS, 20010501, V26 N9, P608-610