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J-GLOBAL ID:200903043734102098
セラミックヒータ及びその製造方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
菅原 正倫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001229215
Publication number (International publication number):2003040678
Application date: Jul. 30, 2001
Publication date: Feb. 13, 2003
Summary:
【要約】【課題】 機械的強度、耐久性に優れたセラミックヒータと、その製造方法とを提供する。【解決手段】 セラミックヒータ1は、窒化珪素質セラミック基体13中に抵抗発熱体10を埋設した構造を有し、窒化珪素質セラミック基体13が、焼結助剤に由来する酸素成分を含み、該窒化珪素質セラミック基体13の表面から1mm内部までの表層部における平均的な酸素成分濃度が0.4〜3.2重量%とされている。このようなセラミックヒータ1は、ホットプレス焼成工程を経て製造することができ、該焼成工程を行うための焼成治具について、そのキャビティ内面から所定深さのSiC/C複合層を備えたものを使用する。
Claim (excerpt):
窒化珪素質セラミック基体中に抵抗発熱体を埋設した構造を有するセラミックヒータにおいて、前記窒化珪素質セラミック基体は、該窒化珪素質セラミック基体の表面から1mm内部までの表層部における平均的な酸素成分濃度が0.4〜3.2重量%とされていることを特徴とするセラミックヒータ。
IPC (4):
C04B 35/584
, H05B 3/10
, H05B 3/18
, H05B 3/48
FI (5):
H05B 3/10 C
, H05B 3/18
, H05B 3/48
, C04B 35/58 102 F
, C04B 35/58 102 Y
F-Term (34):
3K092PP16
, 3K092QA01
, 3K092QB02
, 3K092QB62
, 3K092QB74
, 3K092RA02
, 3K092RB08
, 3K092RB22
, 3K092VV31
, 3K092VV40
, 4G001BA04
, 4G001BA08
, 4G001BA24
, 4G001BA32
, 4G001BA49
, 4G001BA60
, 4G001BB04
, 4G001BB08
, 4G001BB22
, 4G001BB24
, 4G001BB32
, 4G001BB49
, 4G001BB73
, 4G001BC13
, 4G001BC23
, 4G001BC42
, 4G001BC47
, 4G001BC48
, 4G001BC52
, 4G001BC54
, 4G001BD13
, 4G001BD21
, 4G001BE15
, 4G001BE31
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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