感放射線性樹脂組成物

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：大島正孝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993167648
Publication number (International publication number)：1995028235
Application date： Jul. 07, 1993
Publication date： Jan. 31, 1995
Summary：

【要約】【目的】解像度、感度、ハレーション防止効果、現像性、現像後のパターンプロファイル、耐熱性およびフォーカス許容性に優れ、しかも現像後の残膜率が高いポジ型レジストを得ることができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。【構成】アルカリ可溶性ノボラック樹脂と1,2-キノンジアジト化合物とからなる組成物であって、1,2-キノンジアジド化合物として、例えば2,3,4,4'-テトラヒドロキシベンゾフェノン-1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホン酸エステルとα、α-ビス(4-ヒドロキシフェニル)-α-{4-(4-ヒドロキシ-α、α-ジリメチルベジル)}エチルベンゼン-1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホン酸エステルとの組み合わせを用いる。

Claim (excerpt)：

アルカリ可溶性ノボラック樹脂(A)、下記式(1)【化1】[式(1)中、nは0〜3の整数であり、複数のR1は、同一または異なって、水素原子または1,2-キノンジアジドスルホニル基を示す、但し、複数個のR1のうち少なくとも1個は1,2-キノンジアジドスルホニル基である。]で表わされる化合物(B)並びに下記式(2)【化2】[式(2)中、3個のR2は、同一または異なって、水素原子または1,2-キノンジアジドスルホニル基示す、但し、3個のR2のうち少なくとも1個は1,2-キノンジアジドスルホニル基である。]で表わされる化合物(C)、下記式(3)【化3】[式(3)中、2個のXは、同一または異なって、水素原子またはアルキル基を示し、Yは水素原子、アルキル基または置換もしくは非置換のフェニル基を示し、4個のmは、同一または異なって、0〜4の整数であり、3個のR3は、同一または異なって、水素原子または1,2-キノンジアジドスルホニル基を示す、但し、3個のR3のうち少なくとも1個は1,2-キノンジアジドスルホニル基である。]で表わされる化合物(D)および下記式(4)【化4】[式(4)中、Pは0〜3の整数であり、qは1〜3の整数であり、R4は、1個存在する場合、1,2-キノンジアジドスルホニル基を示し、複数個存在する場合、同一または異なって、水素原子または1,2-キノンジアジドスルホニル基を示す、但し、複数個のR4のうち少なくとも1個は1,2-キノンジアジドスルホニル基である。]で表わされる化合物(E)よりなる群から選択される少なくとも1種の化合物を含むことを特徴とする感放射線性樹脂組成物。

IPC (2)：

G03F 7/022 , H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (12)

特開昭63-180947
特開昭63-305348
特開平2-139559

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