高温迅速浸炭用雰囲気ガス発生装置及び方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：木戸一彦 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999336318
Publication number (International publication number)：2001152314
Application date： Nov. 26, 1999
Publication date： Jun. 05, 2001
Summary：

【要約】【課題】煤の発生を抑制するとともに、爆発の危険性も回避しながら、高温迅速浸炭用雰囲気ガスとして好適な一酸化炭素を高濃度に含む変成ガスを安定して発生させることができる高温迅速浸炭用雰囲気ガス発生装置及び方法を提供する。【解決手段】炭化水素と、二酸化炭素、酸素等の源ガスとを混合した原料混合ガスをニッケル触媒層に導入し、触媒反応によって一酸化炭素と水素とを含む浸炭用雰囲気ガスを発生する装置において、前記ニッケル触媒層の途中に、炭化水素を導入する炭化水素導入部を設ける。

Claim (excerpt)：

炭化水素と、二酸化炭素、酸素等の源ガスとを混合した原料混合ガスをニッケル触媒層に導入し、触媒反応によって一酸化炭素と水素とを含む浸炭用雰囲気ガスを発生する装置において、前記ニッケル触媒層の途中に、炭化水素を導入する炭化水素導入部を設けたことを特徴とする高温迅速浸炭用雰囲気ガス発生装置。

F-Term (2)：

4K028AA01 , 4K028AC08

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (10)

特開平4-268062
特開昭63-274752
特開平1-165715

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