減圧処理室の圧力制御装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：特許業務法人武和国際特許事務所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007021692
Publication number (International publication number)：2008187139
Application date： Jan. 31, 2007
Publication date： Aug. 14, 2008
Summary：

【課題】定数を最適な値に設定するのみで、ガス種、ガス流量、目標圧力に関わらず、減圧処理室を速やかに所望圧力に調整する。【解決手段】減圧処理室1と、該減圧処理室に処理ガスを供給するガス供給手段9と、前記減圧処理室に供給された処理ガスに電磁エネルギを供給してプラズマを生成するプラズマ生成手段5と、前記減圧処理室内のガスを排気する排気手段2と、前記減圧処理室内のガス圧力を測定するガス圧力測定手段4と、前記排気手段により排気されるガスの排気速度を調整する排気速度調整手段3と、前記圧力測定手段により測定したガス圧力が目標値に一致するように制御演算を施して排気速度を演算し、演算結果に基づいて前記排気速度調整手段を制御する演算制御装置13とを備えた。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

減圧処理室と、該減圧処理室に処理ガスを供給するガス供給手段と、前記減圧処理室に供給された処理ガスに電磁エネルギを供給してプラズマを生成するプラズマ生成手段と、前記減圧処理室内のガスを排気する排気手段と、前記減圧処理室内のガス圧力を測定するガス圧力測定手段と、前記排気手段により排気されるガスの排気速度を調整する排気速度調整手段と、前記圧力測定手段により測定したガス圧力が目標値に一致するように制御演算を施して排気速度を演算し、演算結果に基づいて前記排気速度調整手段を制御する演算制御装置とを備えたことを特徴とする減圧処理室の圧力制御装置。

IPC (1)：

H01L 21/306

FI (1)：

H01L21/302 101D

F-Term (10)：

5F004AA02 , 5F004AA05 , 5F004BB07 , 5F004BB14 , 5F004CA02 , 5F004CA08 , 5F004DA18 , 5F004DA26 , 5F004DB02 , 5F004DB03

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (6)

減圧処理装置の真空排気装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-186667 Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
半導体製造装置の圧力制御方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-020986 Applicant：株式会社日立製作所, 日立テクノエンジニアリング株式会社
特開昭62-078615

Show all

Return to Previous Page