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J-GLOBAL ID：200903044570250399

光ディスクおよびその製造方法

Inventor： 菊地 稔 ,  白井 良男 ,  阿部 光浩 ,  安孫子 透
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Agent (1)： 杉浦 正知
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001250118
Publication number (International publication number)：2003059106
Application date： Aug. 21, 2001
Publication date： Feb. 28, 2003
Summary：

【要約】【課題】 光ディスクごとの反射率のばらつきや変動を抑制し、対物レンズの高NA化に対応でき、小複屈折、透明性良好で均一な膜厚の光透過層を有する光ディスクおよびその製造方法を提供する。【解決手段】 レプリカ基板1a上に、反射層11、ZnS-SiO2からなる第1の誘電体層12、相変化記録材料からなる記録層13、ZnS-SiO2からなる第2の誘電体層14を順次設け、さらに第2の誘電体層14上に、Si3N4またはSiO2からなる反応防止層15を設けて、情報信号部1cを構成する。情報信号層1cを覆うように、接着層を介して光透過性シートを設け、光透過層を構成する。反射防止層15を設けない場合、情報信号部1cを覆うように、紫外線硬化樹脂からなる反応防止樹脂層を設ける。

Claim (excerpt)：

基板の一主面上に、複数の層からなる、情報信号を記録可能および/または再生可能に構成された情報信号部と、上記情報信号の記録および/または再生に用いられるレーザ光を透過可能に構成された光透過層とが設けられた光ディスクにおいて、上記光透過層が、少なくとも、光透過性を有するシートと、上記シートを上記基板の一主面に接着させるための接着層とからなり、上記情報信号部の上記接着層側に反応防止層が設けられていることを特徴とする光ディスク。

IPC (5)：

G11B 7/24 535 ,  G11B 7/24 522 ,  G11B 7/24 534 ,  G11B 7/24 ,  G11B 7/26 531

FI (8)：

G11B 7/24 535 F ,  G11B 7/24 522 A ,  G11B 7/24 534 B ,  G11B 7/24 534 K ,  G11B 7/24 534 L ,  G11B 7/24 534 M ,  G11B 7/24 535 G ,  G11B 7/26 531

F-Term (9)：

5D029JB35 ,  5D029LA02 ,  5D029LA14 ,  5D029LA15 ,  5D029LA16 ,  5D029LB04 ,  5D029LB07 ,  5D121AA04 ,  5D121FF01

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 光記録媒体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-341132   Applicant：ティーディーケイ株式会社
• 情報記録媒体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-123680   Applicant：株式会社日立製作所, 日立マクセル株式会社