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J-GLOBAL ID：200903044590919279

基板処理システム構成部材の寿命を延ばす炭素ベース膜の使用

Inventor：
ラヴィ カーマダッティ

About ラヴィ カーマダッティ


Applicant, Patent owner：
アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド

About アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド


Agent (1)： 長谷川 芳樹 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997171106
Publication number (International publication number)：1998096082
Application date： Jun. 12, 1997
Publication date： Apr. 14, 1998
Summary：
【要約】【課題】 基板処理装置の構成部材の寿命を延ばすための手段を提供すること。【解決手段】 本発明は、少なくとも一部が炭素ベース被膜100で覆われた内面を持つ処理チャンバ10を含む基板処理装置5を特徴する。炭素ベース被膜は、エッチングガスと、基板処理中に用いられるほかの反応物質からチャンバの内面を保護する。この被膜はまた残留物の蓄積を食い止め、微粒子を発生させず、被覆された材料内にある不純物を密閉する。好ましい実施形態において、炭素ベース被膜はダイヤモンドかダイヤモンド状炭素(DLC)の被膜のいずれかである。また、本発明は、基板処理中に用いられる反応物質から処理チャンバの内面を、その面の少なくとも一部をこうした炭素ベース被膜で覆うことにより保護する方法にも及んでいる。
Claim (excerpt)：
基板を処理するための基板処理装置であって、処理チャンバを画成し、少なくとも一部が炭素ベース被膜で覆われている内面を有するハウジングと、前記ハウジング内に配置された、処理中に前記基板を保持する基板ホルダと、を備える基板処理装置。
IPC (3)：
C23C 16/44 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065
FI (3)：
C23C 16/44 Z ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 B
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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