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J-GLOBAL ID：200903044657225307
ダミー回折マスク
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
富田 和子 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993123907
Publication number (International publication number)：1994035172
Application date： May. 26, 1993
Publication date： Feb. 10, 1994
Summary：
【要約】【構成】光露光装備を利用してリソグラフィ工程を遂行する際に、主マスクと補助的に用いられるダミー回折層を有するマスクが開示される。このダミー回折層は、変形照明と超解像フィルタを用いた露光装備を用いる場合に、主マスクと補助的に使用し、ウェーハに像が伝達されない微細反復パターンに構成される。【効果】主マスクに入射する(或いは主マスクを通過する)光の性質、即ち、光の入射角(または透過角)および入射角(または透過角)による分布を、露光装備次元でないマスクの次元で改善して、解像力および焦点深度を向上させることができる。
Claim (excerpt)：
露光装備を利用してリソグラフィ工程を遂行する場合において、主マスクと補助的に用いて、露光装備の光学的像転写特性および感光剤の特性上、ウェーハ上の感光剤に像が解像されないよう微細な反復パターンに構成されたダミー回折層(20,20a)を有するダミー回折マスク。
IPC (2)：
Patent cited by the Patent：
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