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J-GLOBAL ID：200903044685025232

乾燥方法および乾燥装置

Inventor：
鄭在享

About 鄭在享


Applicant, Patent owner：
三星電子株式会社

About 三星電子株式会社


Agent (1)： 大塚 康徳 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001228528
Publication number (International publication number)：2002158204
Application date： Jul. 27, 2001
Publication date： May. 31, 2002
Summary：
【要約】【課題】ウェーハの乾燥効率を向上させながら迅速に実施することができるマランゴニ効果を利用したウェーハの乾燥方法及びこれを実施するための乾燥装置を提供する。【解決手段】マランゴニ効果を利用したウェーハに乾燥工程において、イソプロピルアルコール液体222を加熱して洗浄液の上部に液体状態で供給する。液体状態で供給されたイソプロピルアルコール液体222は速い速度で拡散されながら、イソプロピルアルコール液体層を形成する。加熱されたイソプロピルアルコールを供給するために、洗浄液の排水時に加熱された窒素ガスのみを供給する場合においても適切にウェーハを乾燥させることができる。従って、迅速にイソプロピルアルコール液体層を形成することにより、乾燥工程の効率を向上させることができる。
Claim (excerpt)：
物体が浸漬されている洗浄液の上部に加熱された不活性ガスを供給して、洗浄液の上部に加熱された不活性雰囲気を形成する段階と、前記洗浄液より表面張力が小さい流体を加熱し、加熱された流体を前記洗浄液上に供給して流体層を形成し、前記洗浄液上に前記流体の蒸気と前記不活性ガスとが混合された混合雰囲気を形成する段階と、前記加熱された流体の流体層を維持しながら、前記洗浄液から前記物体を分離させる段階と、前記物体の周辺に加熱された前記不活性ガスを供給して、前記物体を乾燥させる段階とを含むことを特徴とする物体の乾燥方法。
IPC (9)：
H01L 21/304 651 ,  H01L 21/304 ,  B01D 12/00 ,  B08B 3/04 ,  F26B 3/04 ,  F26B 5/00 ,  F26B 9/06 ,  F26B 21/14 ,  F26B 25/00
FI (9)：
H01L 21/304 651 H ,  H01L 21/304 651 L ,  B01D 12/00 ,  B08B 3/04 Z ,  F26B 3/04 ,  F26B 5/00 ,  F26B 9/06 A ,  F26B 21/14 ,  F26B 25/00 A
F-Term (23)：
3B201AA03 ,  3B201AB01 ,  3B201BB04 ,  3B201BB13 ,  3B201BB92 ,  3B201CC11 ,  3L113AA01 ,  3L113AB02 ,  3L113AC01 ,  3L113AC28 ,  3L113AC46 ,  3L113AC50 ,  3L113AC60 ,  3L113AC67 ,  3L113BA04 ,  3L113BA34 ,  3L113DA04 ,  3L113DA10 ,  3L113DA24 ,  4D056EA01 ,  4D056EA03 ,  4D056EA06 ,  4D056EA08
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
  • 半導体洗浄乾燥方法および半導体洗浄乾燥装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-234337   Applicant：株式会社小松製作所
  • 基板処理方法及び装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-095083   Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
  • 液供給方法および装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-043217   Applicant：株式会社日立製作所, 日立東京エレクトロニクス株式会社
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