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J-GLOBAL ID:200903044878225026
架橋性スルホン酸基含有ポリアリーレンエーテル系化合物
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004079465
Publication number (International publication number):2005264008
Application date: Mar. 19, 2004
Publication date: Sep. 29, 2005
Summary:
【課題】耐熱性、加工性、イオン伝導性にすぐれ、特に寸法安定性に良好な特性を示すイオン伝導膜を提供する高分子材料を得ること。【解決手段】高分子電解質膜として有用なスルホン酸基を導入したポリアリーレンエーテル系化合物、すなわち、電子吸引性の芳香環上にスルホン酸基を導入した3,3’-ジスルホ-4,4‘-ジクロロジフェニルスルホン構造単位とともにベンゾニトリル構造単位を導入したポリアリーレンエーテルに熱および/または光により架橋する成分を含有させることにより寸法安定性に優れたものとすることができる。【選択図】なし
Claim (excerpt):
一般式(1)とともに一般式(2)で示される構成成分を含むとともに,分子鎖中に熱および/または光により架橋する成分を含有していることを特徴とするポリアリーレンエーテル系化合物。
IPC (7):
C08G65/40
, C08G75/23
, C09J171/00
, H01B1/06
, H01B13/00
, H01M8/02
, H01M8/10
FI (8):
C08G65/40
, C08G75/23
, C09J171/00
, H01B1/06 A
, H01B13/00 Z
, H01M8/02 E
, H01M8/02 P
, H01M8/10
F-Term (11):
4J005AA24
, 4J030BA09
, 4J030BG06
, 4J040EE061
, 4J040GA25
, 5G301CD01
, 5G301CE01
, 5H026BB10
, 5H026CX05
, 5H026EE18
, 5H026HH05
Patent cited by the Patent: