パターン形成方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：則近憲佑
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994001807
Publication number (International publication number)：1995181687
Application date： Jan. 13, 1994
Publication date： Jul. 21, 1995
Summary：

【要約】【目的】高解像度であり且つドライエッチング耐性に優れたパターンを安定して形成する。【構成】基板上に、芳香族化合物を含有する感光性層に形成する。前記感光性層に、前記芳香族化合物の吸収スペクトルにおける、長波長側から第3番目の吸収帯の極大波長より短く、且つ第4番目の吸収帯の極大波長より長い波長の光をパターン露光し、該感光性層において光化学反応を生じさせる。続いて、露光後の感光性層を必要に応じて熱処理した後、現像処理し、該感光性層の露光部を選択的に除去または残存させる。

Claim (excerpt)：

基板上に、芳香族化合物を含有する感光性層を形成する工程と、前記感光性層に、前記芳香族化合物の吸収スペクトルにおける、長波長側から第3番目の吸収帯の極大波長より短く、且つ第4番目の吸収帯の極大波長より長い波長の光をパターン露光し、該感光性層において光化学反応を生じさせる工程と、露光後の感光性層を現像処理する工程とを具備するパターン形成方法。

IPC (6)：

G03F 7/20 521 , G03F 7/20 501 , G03F 7/038 505 , G03F 7/039 501 , G03F 7/30 , H01L 21/027

FI (2)：

H01L 21/30 502 R , H01L 21/30 569 F

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

特開平1-207310
特開平4-226454
特開昭57-078529

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