加熱による分別再生を伴う、吸収溶液によりガスを脱酸する方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：宮崎昭夫 , 石橋政幸 , 緒方雅昭
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2008558846
Publication number (International publication number)：2009529420
Application date： Mar. 09, 2007
Publication date： Aug. 20, 2009
Summary：

本発明は、酸性化合物を含むガス状流出物を脱酸するための方法に関する。ガス状流出物は、酸性化合物の減ったガス状流出物および酸性化合物を含ませた吸収溶液を得るためにC1で吸収溶液と接触し、吸収溶液は、ある量の酸性化合物を吸収して、加熱された場合に、2つの分離可能な相を形成するその性質に対して選択される。酸性化合物を含ませた吸収溶液は、次いで、2つの画分:酸性化合物の減った第一吸収溶液画分および酸性化合物が富化された第二吸収溶液画分を分離するためにE1およびE3で加熱される。次いで、これらの2つの画分はBS1で分離される。第二画分は、酸性化合物の部分を放出するためにC2で再生され、第一吸収溶液画分および再生吸収溶液は吸収溶液として再循環される。

Claim (excerpt)：

硫化水素(H2S)、二酸化炭素(CO2)からなる群の少なくとも1つの酸性化合物を含むガス状流出物を脱酸する方法であって、 a)ガス状流出物を吸収溶液と接触させて、酸性化合物の減ったガス状流出物および酸性化合物を含ませた吸収溶液を得る工程であって、吸収溶液が、ある量の酸性化合物を吸収して、加熱される場合に、2つの分離可能な液相を形成するその性質のために選択される工程、 b)吸収溶液が2つの液体画分、即ち、酸性化合物が減った第一の吸収溶液画分および酸性化合物が富化された第二の吸収溶液画分に分割するように、酸性化合物を含ませた吸収溶液を加熱する工程、 c)工程b)で得られた前記2つの画分を分離する工程、 d)前記第二の画分を再生して、酸性化合物の部分を放出する工程、 e)第一の吸収溶液画分および再生された吸収溶液を、吸収溶液として工程a)へ再循環する工程が実施される方法。

IPC (5)：

B01D 53/14 , B01D 53/52 , B01D 53/77 , B01D 53/62 , C10K 1/14

FI (5)：

B01D53/14 C , B01D53/14 102 , B01D53/34 127B , B01D53/34 135Z , C10K1/14

F-Term (26)：

4D002AA03 , 4D002AA09 , 4D002BA02 , 4D002DA31 , 4D002DA32 , 4D002DA34 , 4D002EA07 , 4D002EA14 , 4D002HA01 , 4D020AA03 , 4D020AA04 , 4D020BA15 , 4D020BA16 , 4D020BA18 , 4D020BA19 , 4D020BA21 , 4D020BB03 , 4D020CB35 , 4D020CC12 , 4H060AA01 , 4H060BB01 , 4H060BB23 , 4H060DD02 , 4H060DD12 , 4H060FF04 , 4H060GG08

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

部分再生吸収剤溶液によるガス脱酸方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2005-328792 Applicant：アンスティテュフランセデュペトロール

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