シリカ系被膜の製造方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：藍原誠 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000242037
Publication number (International publication number)：2002053773
Application date： Aug. 10, 2000
Publication date： Feb. 19, 2002
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】LSI本体に熱的及び化学的ダメージを与えずに、low-k膜を形成するための層間絶縁膜の製造方法を提供する。【解決手段】シリカ源と界面活性剤を用いてメソポーラスシリカの超微粒子を合成後、抽出により界面活性剤を除去し、メソポーラスシリカの超微粒子の表面処理後に媒質に分散させることを特徴とする、シリカ系被膜用塗布液の製造方法。

Claim (excerpt)：

シリカ源と界面活性剤を用いてメソポーラスシリカの超微粒子を合成後、抽出により界面活性剤を除去し、メソポーラスシリカの超微粒子の表面処理後に媒質に分散させることを特徴とする、シリカ系被膜用塗布液の製造方法。

IPC (5)：

C09D 1/00 , C01B 33/12 , C09C 1/28 , C09C 3/08 , H01L 21/316

FI (5)：

C09D 1/00 , C01B 33/12 C , C09C 1/28 , C09C 3/08 , H01L 21/316 G

F-Term (45)：

4G072AA25 , 4G072BB09 , 4G072BB15 , 4G072GG03 , 4G072HH17 , 4G072HH30 , 4G072HH33 , 4G072JJ47 , 4G072MM31 , 4G072NN21 , 4G072QQ09 , 4G072UU01 , 4J037AA18 , 4J037CB16 , 4J037CB23 , 4J037DD05 , 4J037DD06 , 4J037EE03 , 4J037EE13 , 4J037FF15 , 4J037FF23 , 4J038AA011 , 4J038HA441 , 4J038JA01 , 4J038JA09 , 4J038JA20 , 4J038JA24 , 4J038JA33 , 4J038JA55 , 4J038KA06 , 4J038KA09 , 4J038KA15 , 4J038LA02 , 4J038LA06 , 4J038LA08 , 4J038MA10 , 4J038PA18 , 4J038PB09 , 4J038PB11 , 4J038PC02 , 4J038PC03 , 5F058BC05 , 5F058BF46 , 5F058BH01 , 5F058BJ02

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

空調換気扇
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-199047 Applicant：三洋電機株式会社, 三洋電機空調株式会社
メソポーラスシリカおよびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-220190 Applicant：日本化学工業株式会社

Cited by examiner (2)

空調換気扇
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-199047 Applicant：三洋電機株式会社, 三洋電機空調株式会社
メソポーラスシリカおよびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-220190 Applicant：日本化学工業株式会社

Article cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

Chem Commun, 1997, No.18, p.1769-1770

Cited by examiner (1)

Chem Commun, 1997, No.18, p.1769-1770

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