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J-GLOBAL ID:200903045133241590
凸型酸化膜構造体
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (5):
志賀 正武
, 高橋 詔男
, 渡邊 隆
, 青山 正和
, 村山 靖彦
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004154765
Publication number (International publication number):2005339883
Application date: May. 25, 2004
Publication date: Dec. 08, 2005
Summary:
【課題】多孔質金属酸化膜の構造を、例えば規則的な立体形状に制御することができ、均一な形状を有する凸型酸化膜構造体を得ることができるようにする。【解決手段】ガラス板などの基板1上に、酸化チタンなどの金属酸化物からなり、多孔質である柱状体2、2・・・が多数突設された凸型酸化膜構造体。この凸型酸化膜構造体は、アルミニウムなどを陽極酸化処理して得られた陽極酸化被膜の微細孔中にチタンアルコキシド溶液などの金属酸化物前駆体を充填し、この陽極酸化被膜を基板にその微細孔が基板に向くように重ね合わせ、ついでこれらを加熱、焼成したのち、陽極酸化被膜を除去する方法で製造される。【選択図】図1
Claim (excerpt):
基板上に、金属酸化物からなり、多孔質である柱状体が多数立設されていることを特徴とする凸型酸化膜構造体。
IPC (2):
FI (2):
H01M14/00 P
, H01L31/04 Z
F-Term (18):
5F051AA14
, 5F051BA17
, 5F051FA03
, 5F051FA06
, 5F051FA08
, 5F051FA21
, 5F051GA03
, 5H032AA06
, 5H032AS16
, 5H032AS19
, 5H032BB02
, 5H032BB05
, 5H032BB06
, 5H032BB07
, 5H032CC11
, 5H032EE02
, 5H032EE07
, 5H032HH04
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
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多孔質酸化チタン皮膜の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-352799
Applicant:株式会社ニコン
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酸化物膜の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-352800
Applicant:株式会社ニコン
Cited by examiner (3)
-
機能性ナノ構造体およびこれを用いた光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-155565
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
積層体及びその製造方法並びにそれを用いた製品
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-238828
Applicant:凸版印刷株式会社
-
電 極
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-367398
Applicant:株式会社豊田中央研究所
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