フォトレジストフィルム

Inventor： ,
Applicant, Patent owner： ,
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994252945
Publication number (International publication number)：1996095239
Application date： Sep. 20, 1994
Publication date： Apr. 12, 1996
Summary：

【要約】【目的】蛍光体の分散不良を起こさず常時蛍光体の分散安定性に優れたフォトレジスト層を供給すると共に10μm以上の硬化レジスト層を形成し、パターン形成精度にも優れ、更にはガラス等の基板への密着性にも優れたフォトレジストフィルムを提供すること。【構成】蛍光体及び無機質粉末を含有せしめた感光性樹脂組成物をベースフイルムに積層してなるフォトレジストフィルム。

Claim (excerpt)：

蛍光体及び無機質粉末を含有せしめた感光性樹脂組成物をベースフイルムに積層してなることを特徴とするフォトレジストフィルム。

IPC (9)：

G03F 7/004 512 , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 505 , C09K 11/54 CPS , C09K 11/64 CPM , C09K 11/78 CPL , G03F 7/028 , G03F 7/033 , H01J 9/227

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

特開平4-051241
特開昭51-061488
特開昭51-032271

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