Pat

J-GLOBAL ID：200903045452988657

投影露光装置

Inventor： 鳥越 真 ,  鈴木 章義
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 高梨 幸雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993136886
Publication number (International publication number)：1994326000
Application date： May. 14, 1993
Publication date： Nov. 25, 1994
Summary：

【要約】【目的】 投影光学系の球面収差を制御し、高精度な投影パターン像が得られる半導体素子製造用の投影露光装置を得ること。【構成】 照明光学系からの光束で照明された第1物体面上のパターンを投影光学系を介して第2物体面上に投影する際、球面収差計測手段により該投影光学系の球面収差を計測し、該球面収差計測手段からの信号を利用して制御手段により、該投影光学系の一部の光学部材を駆動させて該投影光学系の球面収差を制御していること。

Claim (excerpt)：

照明光学系からの光束で照明された第1物体面上のパターンを投影光学系を介して第2物体面上に投影露光する際、球面収差計測手段により該投影光学系の球面収差を計測し、該球面収差計測手段からの信号を利用して制御手段により該投影光学系の球面収差を所定値に制御していることを特徴とする投影露光装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G02B 13/00

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

• 投影露光装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-194930   Applicant：株式会社ニコン
• 特開平2-278811
  
• 特開平2-166719
  
• 特開昭60-214335
  

Cited by examiner (4)

• 投影露光装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-194930   Applicant：株式会社ニコン
• 特開平2-278811
  
• 特開平2-166719
  
• 特開昭60-214335