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J-GLOBAL ID：200903045489240571

ウェーハプローバ

Inventor： 土島 次郎 ,  木村 和則
Applicant, Patent owner： 株式会社東京精密
Agent (1)： 松浦 憲三
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995050916
Publication number (International publication number)：1996250558
Application date： Mar. 10, 1995
Publication date： Sep. 27, 1996
Summary：

【要約】【目的】高速高精度の位置決め制御性に優れると共に、クリーンルーム設置に適したウェーハプローバを提供する。【構成】検査対象となるウェーハを検査用テーブル16の上面に吸着保持し、該検査用テーブル16をリニア同期モータ52、60によって、X-Y方向に水平移動させることにより、ウェーハの検査位置を変更・調整している。リニア同期モータ52、60は、直線方向の推進動力をダイレクトに発生・伝達することができるため、従来の回転型モータ及びボールネジから成る駆動伝達機構に比べて剛性が高く、高速応答制御が可能となる。また、リニア同期モータは回転型モータの場合に比べて、薄型に構成でき、可動質量中心と駆動中心とを近づけることができ、偶力による姿勢変化が低減され、位置決め精度と高速追従性とが向上する。更に、リニア同期モータはボールネジのような消耗がなく給油も不要なため、メンテナンス性にも優れ、クリーンな環境での使用に適している。

Claim (excerpt)：

半導体ウェーハ上に形成された電気素子回路の品質を検査するウェーハプローバにおいて、検査対象のウェーハを吸着保持する検査用テーブルと、前記検査用テーブルをX軸方向に水平移動させる第1のリニア同期モータと、前記検査用テーブルをY軸方向に水平移動させる第2のリニア同期モータと、を備えたことを特徴とするウェーハプローバ。

IPC (3)：

H01L 21/66 ,  G01R 1/06 ,  G01R 31/26

FI (3)：

H01L 21/66 B ,  G01R 1/06 E ,  G01R 31/26 J

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平1-216120
  
• 特開平4-181198
  
• 精密位置決め装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-310282   Applicant：キヤノン株式会社