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J-GLOBAL ID:200903045512788040
パターン検査装置および方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
島田 明宏
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2008102876
Publication number (International publication number):2009250937
Application date: Apr. 10, 2008
Publication date: Oct. 29, 2009
Summary:
【課題】事前設定を行わずに2枚の画像の輝度を揃えてパターン検査を正確に行う。【解決手段】エッジ検出部21は、被検査画像OBJに含まれる水平エッジと垂直エッジを検出する。水平補正値算出部22は、水平補正値Aとして、被検査画像の水平非エッジ領域(水平方向に並び、垂直エッジ上の画素で挟まれた画素からなる領域)内の画素値の平均値と参照画像REFの対応位置にある領域内の画素値の平均値との差を求める。垂直補正値算出部23は同様に垂直補正値Bを求め、補正値選択部24は水平補正値Aと垂直補正値Bを含む複数の候補の中から補正値Cを選択する。補正部25は補正値Cを用いて被検査画像を補正し、比較部26は補正後の被検査画像と参照画像の差を求める。欠陥判定部32は、求めた差に基づき被検査物における欠陥を検出する。【選択図】図1
Claim (excerpt):
所定パターンが形成された被検査物を撮影した多値の被検査画像と、前記被検査画像の基準となる多値の参照画像のうち一方を第1画像とし、他方を第2画像として両者を比較することにより、前記被検査物における欠陥を検出するパターン検査装置であって、
前記第1画像に含まれる所定方向のエッジを検出するエッジ検出手段と、
前記エッジ検出手段によるエッジ検出結果に基づき、エッジ上の画素で挟まれた画素からなる非エッジ領域を前記第1画像から抽出し、前記非エッジ領域内の画素値と前記第2画像の対応位置にある領域内の画素値とに基づき、前記非エッジ領域に適用する補正値を求める補正値算出手段と、
前記補正値算出手段で求めた補正値を用いて、前記第1画像を補正する補正手段と、
前記補正手段で補正された第1画像と前記第2画像との差を求める比較手段と、
前記比較手段で求めた差に基づき、前記被検査物における欠陥を検出する欠陥判定手段とを備えた、パターン検査装置。
IPC (3):
G01N 21/956
, G01N 21/88
, G06T 1/00
FI (3):
G01N21/956 A
, G01N21/88 J
, G06T1/00 305A
F-Term (28):
2G051AA51
, 2G051AA56
, 2G051AB02
, 2G051AC21
, 2G051CA04
, 2G051EA08
, 2G051EA11
, 2G051EA12
, 2G051EA14
, 2G051EA16
, 2G051EB01
, 2G051EB09
, 5B057AA03
, 5B057BA02
, 5B057CA08
, 5B057CA12
, 5B057CA16
, 5B057CC02
, 5B057CE11
, 5B057DA03
, 5B057DA08
, 5B057DA16
, 5B057DB02
, 5B057DB09
, 5B057DC16
, 5B057DC22
, 5B057DC33
, 5B057DC36
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
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チップのパターン検査装置および方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-294215
Applicant:株式会社日立製作所
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