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J-GLOBAL ID：200903045611151860

合成ガス製造触媒及び合成ガスの製造方法

Inventor： 鹿田 勉 ,  大野 陽太郎 ,  井上 紀夫 ,  水口 雅嗣 ,  戸村 啓二
Applicant, Patent owner： 日本鋼管株式会社
Agent (1)： 田中 政浩
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996338283
Publication number (International publication number)：1998174869
Application date： Dec. 18, 1996
Publication date： Jun. 30, 1998
Summary：

【要約】【課題】 低温において高い収率で合成ガスを得ることができる触媒及び製造方法を提供する。【解決手段】 上記課題は、銅を含有することを特徴とする、ジメチルエーテルと二酸化炭素から合成ガスを生成させる触媒と、ジメチルエーテルと二酸化炭素を含有する混合ガスに銅を含有する触媒を接触させることを特徴とする合成ガスの製造方法によって解決される。

Claim (excerpt)：

銅を含有することを特徴とする、ジメチルエーテルと二酸化炭素から合成ガスを生成させる触媒

IPC (5)：

B01J 23/72 ,  B01J 23/80 ,  B01J 23/86 ,  C01B 3/40 ,  C01B 31/18

FI (5)：

B01J 23/72 M ,  B01J 23/80 M ,  B01J 23/86 M ,  C01B 3/40 ,  C01B 31/18 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 水素リッチガスの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-189590   Applicant：ハルドール・トプサー・アクチエゼルスカベット