膜の製造方法及びこれにより得られる膜

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：稲葉良幸 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000047764
Publication number (International publication number)：2001234356
Application date： Feb. 24, 2000
Publication date： Aug. 31, 2001
Summary：

【要約】【課題】導電性に優れた導電膜を安価に製造する方法を提供すること。【解決手段】本発明の膜の製造方法は、基材上にコロイド層を形成し、該コロイド層の表面に、該基材より該コロイド層で大きな吸収強度となるエネルギー線を照射することを特徴とする。特に、前記コロイド層が金属コロイド層であり、前記膜として導電膜を好適に得る。また、本発明の膜は、上記製造方法により得られることを特徴とする。

Claim (excerpt)：

基材上にコロイド層を形成し、該コロイド層の表面に、該基材より該コロイド層で大きな吸収強度となるエネルギー線を照射することを特徴とする膜の製造方法。

IPC (5)：

C23C 26/00 , B05D 7/24 301 , B05D 7/24 303 , H01B 5/14 , H01B 13/00 503

FI (5)：

C23C 26/00 E , B05D 7/24 301 H , B05D 7/24 303 B , H01B 5/14 Z , H01B 13/00 503 Z

F-Term (24)：

4D075AC64 , 4D075BB37Z , 4D075DA06 , 4D075DC21 , 4D075EA12 , 4K044AA12 , 4K044AA16 , 4K044AB02 , 4K044BA08 , 4K044BB01 , 4K044BC14 , 4K044CA41 , 4K044CA53 , 5G307FA01 , 5G307FA02 , 5G307FB02 , 5G307FC10 , 5G307GA06 , 5G307GC02 , 5G323BA05 , 5G323BB01 , 5G323BB02 , 5G323BB06 , 5G323BC03

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

非導電性プラスチックからなるパターン化されたプラスチック型中の組み込まれた電極の製法、組み込まれた電極を有する非導電性プラスチックからなるパターン化されたプラスチック型、組み込まれた電極を有する非導電性プラスチックからなるパターン化されたプラスチック型を含む分析系及び構造体の製造のための材料の析出方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-264543 Applicant：マイクロパーツゲゼルシャフトフュアミクロストルクトゥーアテヒニクミットベシュレンクテルハフツング
導体組成物。
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-230373 Applicant：田中貴金属工業株式会社
金属粉末によって表面を金属化する方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-080561 Applicant：ルシアン,ディエゴ,ロード

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