ハーフトーン位相シフトフォトマスク用ブランクスの製造方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：米澤明 (外7名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994089488
Publication number (International publication number)：1995295203
Application date： Apr. 27, 1994
Publication date： Nov. 10, 1995
Summary：

【要約】【目的】短波長光に対して十分な透過率を有する高解像度リソグラフィーに使用可能なハーフトーン位相シフトフォトマスク用ブランクスを得る。【構成】フッ素原子含有気体から生成したプラズマ中において金属クロムもしくはクロム化合物から蒸発またはスパッタリングさせたクロムを透明基板上に成膜させることによってフッ化クロム化合物を主体とする層の少なくとも1層を基板上に形成してハーフトーン位相シフトフォトマスク用ブランクスを得る。

Claim (excerpt)：

ハーフトーン位相シフトフォトマスク用ブランクスの製造方法において、フッ素原子含有気体から生成したプラズマ中において金属クロムもしくはクロム化合物からクロムを蒸発もしくはスパッタリングすることにより透明基板上にフッ化クロム化合物を主体とする層を形成することを特徴とするハーフトーン位相シフトフォトマスク用ブランクスの製造方法。

IPC (2)：

G03F 1/08 , H01L 21/027

FI (2)：

H01L 21/30 502 P , H01L 21/30 528

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (15)

位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスク
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-041117 Applicant：ホーヤ株式会社
位相シフトマスク
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-321294 Applicant：凸版印刷株式会社
特開平1-172222

Show all

Return to Previous Page