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J-GLOBAL ID:200903045830040659

積層体

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 渡辺 喜平 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001148968
Publication number (International publication number):2002355936
Application date: May. 18, 2001
Publication date: Dec. 10, 2002
Summary:
【要約】【課題】 透明性等に優れた積層体を提供する。【解決手段】 最上側にある第1層18と、第1層の下側にある第2層16とを含む積層体であって、第2層が、下記化合物(A-1)〜(C)を含有する有機溶剤系硬化性組成物を硬化させた硬化物からなる層である。(A-1) 50〜80重量%のアンチモン含有酸化錫(B) 10〜25重量%の分子内に2以上の(メタ)アクリロイル基を有するウレタン(メタ)アクリレート(C) 10〜25重量%の多官能(メタ)アクリレート
Claim (excerpt):
分子内に2以上の(メタ)アクリロイル基を有するウレタン(メタ)アクリレート、多官能(メタ)アクリレート、針状金属酸化物を含有する有機溶剤系硬化性組成物を硬化させた硬化物からなる層を、最上側にある第1層の下側に有することを特徴とする積層体。
IPC (11):
B32B 27/30 ,  B32B 27/20 ,  G02B 1/10 ,  G02B 1/11 ,  G02F 1/1335 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/027 513 ,  G03F 7/11 ,  G09F 9/00 309 ,  G09F 9/00 313 ,  C08F290/06
FI (11):
B32B 27/30 A ,  B32B 27/20 Z ,  G02F 1/1335 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/027 513 ,  G03F 7/11 ,  G09F 9/00 309 A ,  G09F 9/00 313 ,  C08F290/06 ,  G02B 1/10 A ,  G02B 1/10 Z
F-Term (75):
2H025AA00 ,  2H025AA13 ,  2H025AA19 ,  2H025AB14 ,  2H025AB20 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BC13 ,  2H025BC42 ,  2H025BC66 ,  2H025CA00 ,  2H025CC03 ,  2H025CC09 ,  2H025CC20 ,  2H025DA34 ,  2H091FA37X ,  2H091FA37Z ,  2H091FB04 ,  2H091FB06 ,  2H091FC12 ,  2H091FC23 ,  2H091GA01 ,  2H091LA02 ,  2H091LA07 ,  2H091LA16 ,  2K009AA05 ,  2K009AA15 ,  2K009BB02 ,  2K009BB13 ,  2K009BB14 ,  2K009BB24 ,  2K009BB28 ,  2K009CC03 ,  2K009CC26 ,  2K009DD02 ,  2K009DD06 ,  2K009EE03 ,  4F100AA17A ,  4F100AA17H ,  4F100AA28 ,  4F100AA29 ,  4F100AK25A ,  4F100AK41 ,  4F100AK51A ,  4F100AL05A ,  4F100AL06A ,  4F100AT00B ,  4F100BA02 ,  4F100CA02 ,  4F100CA23A ,  4F100CA23H ,  4F100DE03A ,  4F100DE03H ,  4F100EJ08A ,  4F100EJ54 ,  4F100GB41 ,  4F100JB12A ,  4F100JG03 ,  4F100JN01 ,  4F100JN06 ,  4J027AG01 ,  4J027AG12 ,  4J027AG33 ,  4J027BA25 ,  4J027BA26 ,  4J027BA27 ,  4J027BA28 ,  4J027CA14 ,  4J027CB10 ,  5G435AA02 ,  5G435BB06 ,  5G435BB12 ,  5G435GG32 ,  5G435GG43 ,  5G435HH03
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (7)
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Cited by examiner (9)
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