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J-GLOBAL ID：200903045905755977

水素水を製造する装置

Inventor：
松岡 大悟

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藤原 由子

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植田 孝之

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黒飛 吉晴

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原田 利典

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松井 久一

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Applicant, Patent owner：
広島化成株式会社

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Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003436591
Publication number (International publication number)：2005177724
Application date： Dec. 16, 2003
Publication date： Jul. 07, 2005
Summary：
【目的】酸化体と還元体の混合状態にある原料水に所定の方法で水素を吹き込んで、原料水の酸化還元電位を少なくとも-400mV以下に維持した水素水を製造する装置の提供。【解決手段】5Lの原料水貯留能力がある反応槽(1)を透孔を有し、還元触媒(9)を載置した仕切板(8)で上部チャンバ(6)と下部チャンバ(7)に分割し、家庭用水道と連結した原料水供給系パイプ(2)、減圧系パイプ(3)、水素ガスボンベ(1MPa、300m2未満)と連結した水素供給系パイプ(4)、及び生成水取出し系パイプ(5)を封止接合し、29Lの水素ガスを、3分間バブリングし、時間あたり最大で30Lの水素水を生産する。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
反応槽(1)と、反応槽(1)に封止結合された原料水供給系パイプ(2)と、反応槽(1)に封止結合された減圧系パイプ(3)と、反応槽(1)に封止結合された水素供給系パイプ(4)と、反応槽(1)に封止結合された生成水取出し系パイプ(5)から構成される水素水製造装置であって、 イ。反応槽(1)が、透孔を有する仕切板(8)を介して少なくとも2個の上部チャンバ(6)と下部チャンバ(7)に分割されていて、仕切板(8)の上に還元触媒(9)を載置したこと、 ロ。原料水供給系パイプ(2)が、原料水供給源(SW)に封止接続されていて、反応槽(1)の上部チャンバ(6)内に導入される先端に散水ノズル(11)を具備していること、 ハ。減圧系パイプ(3)が、減圧装置(VP)に封止接続されていて、反応槽(1)の上部チャンバ(6)内に導入されていること、 ニ。水素供給系パイプ(4)が、水素供給装置(19)に封止接続されていて、反応槽(1)の下部チャンバ(7)の底部に封止接続されていること、 ホ。生成水取出し系パイプ(5)が、反応槽(1)の下部チャンバ(7)の底部に封止接続されていることを特徴とする水素水製造装置。
IPC (1)：
C02F1/68
FI (6)：
C02F1/68 520B ,  C02F1/68 510B ,  C02F1/68 530A ,  C02F1/68 540A ,  C02F1/68 540H ,  C02F1/68 540Z
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3)

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