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J-GLOBAL ID：200903045974804130

低級炭化水素のハイドレート状物を含む材料およびその製造方法

Inventor： 奥井 智治 ,  前田 有理子 ,  金子 克美
Applicant, Patent owner： 東京瓦斯株式会社
Agent (1)： 加茂 裕邦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997148729
Publication number (International publication number)：1998324646
Application date： May. 22, 1997
Publication date： Dec. 08, 1998
Summary：

【要約】【課題】新規且つ有用な多孔質材料の細孔内にそれら低級炭化水素を多量に含むハイドレート状物を含む材料及びその製造方法を得る。【解決手段】多孔質材料に対して、水を吸着させた後に又は水を吸着させると同時に、低級炭化水素を含むガスを接触させることにより得られた該多孔質材料の細孔内に低級炭化水素のハイドレート状物を含む材料及びその製造方法。

Claim (excerpt)：

多孔質材料に対して、水を吸着させた後に又は水を吸着させると同時に、低級炭化水素を含むガスを接触させることにより得られた該多孔質材料の細孔内に低級炭化水素のハイドレート状物を含む材料。

IPC (6)：

C07C 9/02 ,  C07C 7/20 ,  C07C 11/04 ,  C10L 3/00 ,  C10L 5/00 ,  F17C 11/00

FI (6)：

C07C 9/02 ,  C07C 7/20 ,  C07C 11/04 ,  C10L 5/00 ,  F17C 11/00 ,  C10L 3/00 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 高密度メタンハイドレートおよびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-148730   Applicant：東京瓦斯株式会社
• 特許第3647602号