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J-GLOBAL ID：200903046417644348

高密度メタンハイドレートおよびその製造方法

Inventor： 奥井 智治 ,  前田 有理子 ,  金子 克美
Applicant, Patent owner： 東京瓦斯株式会社
Agent (1)： 加茂 裕邦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997148730
Publication number (International publication number)：1998324647
Application date： May. 22, 1997
Publication date： Dec. 08, 1998
Summary：

【要約】【課題】新規且つ有用な高密度メタンハイドレート及びその製造方法を得る。【解決手段】メタンと水との組成比が0.5〜1.5:1を有する高密度メタンハイドレート及び多孔質材料に対して水を吸着させた後又は水を吸着させると同時にメタンを接触させることを特徴とするメタンと水との組成比が0.5〜1.5:1を有する高密度メタンハイドレートの製造方法。

Claim (excerpt)：

メタンと水との組成比が0.5〜1.5:1を有する高密度メタンハイドレート。

IPC (3)：

C07C 9/04 ,  C07C 7/20 ,  C10L 5/00

FI (3)：

C07C 9/04 ,  C07C 7/20 ,  C10L 5/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 低級炭化水素のハイドレート状物を含む材料およびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-148729   Applicant：東京瓦斯株式会社
• 特許第3647602号