エチニル基を有するジアリールエテン系化合物

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996026183
Publication number (International publication number)：1997071585
Application date： Jan. 18, 1996
Publication date： Mar. 18, 1997
Summary：

【要約】【構成】下記一般式(1)にて示されるエチニル基を有するジアリールエテン系化合物。【化1】(但し、式中nは2〜5の整数を表し、Aは5-エチニル-3-チエニル基,または6-エチニル-3-ベンゾチエニル基を表し、Bは5-エチニル-3-チエニル基,インドリル基,チエニル基,6-エチニル-3-ベンゾチエニル基を表す。)【効果】熱安定性、耐湿性、感度に優れ、かつ着消色の繰り返し耐久性の良好なフォトクロミック性を有する、性能の優れた光記録材料、複写材料、超解像用マスキング材料、光変調素子材料等の可逆的光学材料などをうることができる。

Claim (excerpt)：

下記一般式(1)にて示されるジアリールエテン系化合物。【化1】(但し、式中nは2〜5の整数を表し、Aは一般式(2)または(5)を、Bは一般式(2)、(3)、(4)または、(5)のいずれか1つを表す。)【化2】【化3】【化4】【化5】(R1 、R4 、R5 、R10、R13はアルキル基を、R2 、R11は水素原子あるいはアルキル基を、R3 、R12、R17は水素原子、アルキル基、フェニル基、アルキルフェニル基、アルコキシフェニル基、シアノフェニル基、ジアルキルアミノフェニル基、または置換あるいは未置換のチエニル基、インドリル基、ベンゾチエニル基、ピリジル基、チアゾリル基、オキサゾリル基等のヘテロ環を表す。mは1または2の整数、R6 は水素原子、アルキル基、ジアルキルアミノ基、シアノ基、ニトロ基またはアルコキシ基を、R7 〜R9 、R14〜R16は水素原子を表す。)

IPC (6)：

C07D409/08 209 , C07D333/08 , C07D333/54 , C07F 7/12 , C09K 9/02 , G03C 1/73 503

FI (6)：

C07D409/08 209 , C07D333/08 , C07D333/54 , C07F 7/12 V , C09K 9/02 B , G03C 1/73 503

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

ジアリールエテン系化合物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-350953 Applicant：鐘紡株式会社
共役二重結合鎖を有するジアリールエテン系化合物及びこのジアリールエテン系化合物を用いた光記録媒体の光記録・再生法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-287570 Applicant：鐘紡株式会社
ジアリールエテン系化合物及びこのジアリールエテン系化合物を用いた光記録媒体の光記録・再生法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-338827 Applicant：鐘紡株式会社

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