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J-GLOBAL ID:200903046145223402

媒質の測定方法および測定装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 滝本 智之 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997199621
Publication number (International publication number):1998325795
Application date: Jul. 25, 1997
Publication date: Dec. 08, 1998
Summary:
【要約】【課題】 光干渉法を用いて、測定対象物の位相屈折率、複屈折と厚さの分離測定をする媒質の測定方法および測定装置を提供することを目的とする。【解決手段】 光源1からの光を集光レンズ3により集光して測定対象物4に照射し、参照光ミラー6と測定対象物4の前面および後面における干渉光強度がそれぞれ最大になるように、測定対象物4または集光レンズ3および参照光ミラー6を移動させ、前面における干渉光最大強度が現れた位置と、後面における干渉光最大強度の位置での前記測定対象物4または前記集光レンズ3および参照光ミラー6の移動距離を求めることにより、前記測定対象物4の屈折率と厚さを同時測定する。
Claim (excerpt):
測定対象物または集光レンズおよび参照光ミラーを保持搭載する駆動手段と、光源と、前記測定対象物からの反射光と前記参照光ミラーからの参照光を合波・干渉させて検波する受光素子とを備えた干渉光学系であって、前記干渉光学系の前記光源からの光を前記集光レンズにより集光して前記測定対象物に照射し、前記参照光ミラーと前記測定対象物の前面および後面における干渉光強度がそれぞれ最大になるように、前記測定対象物または前記集光レンズおよび前記参照光ミラーを移動させ、前面における干渉光最大強度が現れた位置と、後面における干渉光最大強度の位置での前記測定対象物または前記集光レンズおよび参照光ミラーの移動距離を求めることにより、前記測定対象物の屈折率と厚さを同時測定することを特徴とする媒質の測定方法。
IPC (2):
G01N 21/45 ,  G01B 11/06
FI (2):
G01N 21/45 A ,  G01B 11/06 G
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)

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