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J-GLOBAL ID：200903046149636108

顕微鏡システム

Inventor：
村上 勝治

About 村上 勝治


Applicant, Patent owner：
オリンパス光学工業株式会社

About オリンパス光学工業株式会社


Agent (1)： 鈴江 武彦 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999265330
Publication number (International publication number)：2001091840
Application date： Sep. 20, 1999
Publication date： Apr. 06, 2001
Summary：
【要約】【課題】 被検体上の複数の欠陥の相対的な大きさや位置関係および種類などをを視覚的に認識できる顕微鏡システムを提供する。【解決手段】 被検体の観察像を撮像するCCDカメラ25を有し、低倍率で撮像された被検体の観察画像に基づいて高倍率の観察画像を取得可能にした顕微鏡システムであって、被検体を載置するとともに、観察画像の座標をスケール情報として出力するステージ22を有し、低倍率の観察画像上で所望する領域が指定されると、画像処理装置26によりステージ22のスケール情報と倍率情報に基づいて画像範囲を決定するとともに、CCDカメラ25より撮像される画像を高倍率の観察画像として取得し、この高倍率の観察画像を低倍率の観察画像に対し階層的に記憶装置30に記憶する。
Claim (excerpt)：
被検体の観察像を撮像する撮像手段を有し、低倍率で撮像された被検体の観察画像に基づいて高倍率の観察画像を取得可能にした顕微鏡システムにおいて、前記被検体を載置するとともに、観察画像の座標をスケール情報として出力するステージと、前記低倍率の観察画像上で所望する領域が指定されると、前記ステージのスケール情報と倍率情報に基づいて画像範囲を決定するとともに、前記撮像手段より撮像される画像を高倍率の観察画像として取得する画像処理手段と、この画像処理装置により取得された高倍率の観察画像を前記低倍率の観察画像に対し階層的に記憶する記憶手段とを具備したことを特徴とする顕微鏡システム。
IPC (2)：
G02B 21/00 ,  G02B 21/36
FI (2)：
G02B 21/00 ,  G02B 21/36
F-Term (3)：
2H052AF22 ,  2H052AF23 ,  2H052AF25
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)
  • 顕微鏡画像遠隔観察装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-126357   Applicant：オリンパス光学工業株式会社
  • 電子顕微鏡
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-155901   Applicant：株式会社日立製作所, 日立計測エンジニアリング株式会社
  • 観察位置表示装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-059081   Applicant：住友金属工業株式会社

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