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J-GLOBAL ID:200903046258826782
マイクロ波プラズマCVD装置
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
若林 忠
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993005240
Publication number (International publication number):1994216039
Application date: Jan. 14, 1993
Publication date: Aug. 05, 1994
Summary:
【要約】【目的】 マイクロ波を用いた成膜装置において、マイクロ波導入窓上に成膜することを防止し、プラズマを安定的に長時間維持できるとともに量産することが可能な成膜装置を提供すること。【構成】 マイクロ波電力投入手段、原料ガス供給手段、排気手段、および成膜室を備えるマイクロ波プラズマCVD装置において、マイクロ波導入窓のプラズマに晒される面上に、マイクロ波透過性部材で構成された多柱状構造体を配設し、該各柱状構造体の対称軸が、プラズマに晒される面に対して垂直である。
Claim (excerpt):
マイクロ波電力投入手段、原料ガス供給手段、排気手段、および成膜室を備えるマイクロ波プラズマCVD装置において、マイクロ波導入窓のプラズマに晒される面上に、マイクロ波透過性部材で構成された多柱状構造体を配設し、該各柱状構造体の対称軸が、プラズマに晒される面に対して垂直であることを特徴とする防着構造付マイクロ波プラズマCVD装置。
IPC (3):
H01L 21/205
, C23C 16/50
, H01L 21/31
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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特開平3-104888
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特開平3-122273
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特開平4-164317
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ガス供給装置およびそれを備えたマイクロ波プラズマ成膜装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-245493
Applicant:株式会社日立製作所
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特開平3-030419
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特開平3-030420
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特開平4-181720
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