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J-GLOBAL ID:200903046273551366

偏光測定装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 岩橋 祐司
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994248386
Publication number (International publication number):1996086744
Application date: Sep. 16, 1994
Publication date: Apr. 02, 1996
Summary:
【要約】【構成】 検出器30の出力から、変調周波数ω成分及び/または2倍高調波である2ω成分を抽出するロックインアンプ31と、前記ロックインアンプ31の出力するω成分及び/または2ω成分から、進相軸または遅相軸と、前記入射偏光軸との位相差を演算する演算手段32と、前記演算手段32の出力する位相差に応じて前記サンプルステージ26を回転させ、前記進相軸または遅相軸と、入射偏光軸とを一致させて軸出しを行なうステージ駆動手段34と、を備えたことを特徴とする偏光測定装置。【効果】 精度よく自動的に軸出しを行なうことができる。
Claim (excerpt):
光源から出光された光に所定の直線偏光を与える偏光子と、光に所定変調周波数ωで変調を与える光弾性変調子と、被測定試料を載置し、前記偏光及び変調の与えられた入射光に対しその光軸回りで回転位置を変更し得るサンプルステージと、前記サンプルステージ上の被測定試料を介した光強度を測定する検出器と、を備えた偏光測定装置において、前記検出器の出力から、変調周波数ω成分及び/または2倍高調波である2ω成分を抽出するロックインアンプと、前記ロックインアンプの出力するω成分及び/または2ω成分から、進相軸または遅相軸と、前記入射偏光軸との位相差を演算する演算手段と、前記演算手段の出力する位相差に応じて前記サンプルステージを回転させ、前記進相軸または遅相軸と、入射偏光軸とを一致させて軸出しを行なうステージ駆動手段と、を備えたことを特徴とする偏光測定装置。
IPC (2):
G01N 21/23 ,  G01J 4/04
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3)
  • 特開平2-242137
  • 位相差測定方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平3-156632   Applicant:カシオ計算機株式会社
  • 複屈折分布測定方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平4-301443   Applicant:中井貞雄, 財団法人レーザー技術総合研究所, 富士電機株式会社
Cited by examiner (3)
  • 特開平2-242137
  • 位相差測定方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平3-156632   Applicant:カシオ計算機株式会社
  • 複屈折分布測定方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平4-301443   Applicant:中井貞雄, 財団法人レーザー技術総合研究所, 富士電機株式会社

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