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J-GLOBAL ID：200903046278768312

ウェファ基板のキャビティを含む構造とその製造方法

Inventor：
ブリュエル,ミシェル

About ブリュエル,ミシェル


Applicant, Patent owner：
コミツサリア タ レネルジー アトミーク

About コミツサリア タ レネルジー アトミーク


Agent (1)： 浅村 皓 (外3名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1995519911
Publication number (International publication number)：1997508493
Application date： Jan. 25, 1995
Publication date： Aug. 26, 1997
Summary：
【要約】キャビティを含む構造と、該構造を製造する方法が開示される。基板(2)と、非導電性材料で作られ、基板(2)の1面(1)に固定された薄い表面ウェファ(12)とを有する構造にして、基板(2)が前記基板の1面(1)と同じ面内にあるキャビティ(10)を有する構造を製造する方法において、ウェファを所定位置に適切に保持するため、キャビティが、基板の表面において、表面ウェファの厚さの関数である少なくとも1次元の寸法を有するように、キャビティ(10)を基板(2)の1面(1)内にエッチングする段階と;非導電性材料のウェファ(12)を基板(2)の面(1)に結合させる段階と;薄い表面ウェファを作成するためウェファ(12)の厚さを減少させる段階とを有している。
Claim (excerpt)：
基板(2)と、非導電性材料から作られ、基板(2)の面(1)に接合された表面薄膜(16)とを有し、基板(2)が面(1)と同じ面にあるキャビティ(10)を有している構造を製造する方法にして、 基板の面(1)にキャビティ(10)をエッチングする段階にして、該キャビティが基板の面に、表面膜を正しい位置に固定するために、表面膜の厚さの関数である少なくとも一次元の寸法を有している段階と、 非導電性材料のウェファ(12)を基板(2)の面(1)に接合する段階と、 ウェファ(12)を、表面薄膜を得るために薄くする段階とを有することを特徴とする方法。
IPC (3)：
H01L 21/02 ,  H01L 23/34 ,  H01L 23/473
FI (3)：
H01L 21/02 B ,  H01L 23/34 A ,  H01L 23/46 Z
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
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