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J-GLOBAL ID:200903046339414683

温室栽培の炭酸ガス施与装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3): 田中 秀佳 ,  城村 邦彦 ,  熊野 剛
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2009198320
Publication number (International publication number):2009273481
Application date: Aug. 28, 2009
Publication date: Nov. 26, 2009
Summary:
【課題】 温室内の栽培作物全体に適度な濃度の炭酸ガス混合空気を均一にして安全に施与することのできる温室栽培の炭酸ガス施与装置を提供。【解決手段】 温室1内の空気を循環させて温室1内の栽培作物5に向け送風する空気循環手段10と、その空気循環手段10の温室1内の空気を吸引する吸気口11に適宜に濃度制御された炭酸ガスを供与する炭酸ガス供給手段20とを具備する。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
温室内の空気を循環させて温室内の栽培作物に向け送風する空気循環手段と、前記空気循環手段の温室内の空気を吸引する吸気口に適宜に濃度制御された炭酸ガスを供与する炭酸ガス供給手段とを具備したことを特徴とする温室栽培の炭酸ガス施与装置。
IPC (2):
A01G 9/18 ,  A01G 9/24
FI (2):
A01G9/18 ,  A01G9/24 G
F-Term (3):
2B029JA02 ,  2B029JA10 ,  2B029PA01
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
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