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J-GLOBAL ID：200903046382953644

陰イオン交換性を有する層状ポリアミノアルキルシロキサン複合体とその製造方法およびその用途

Inventor：
井伊 伸夫

About 井伊 伸夫

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金子 芳郎

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松本 太輝

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藤井 和子

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藤田 武敏

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Applicant, Patent owner：
独立行政法人物質・材料研究機構

About 独立行政法人物質・材料研究機構


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004046049
Publication number (International publication number)：2005120333
Application date： Feb. 23, 2004
Publication date： May. 12, 2005
Summary：
【課題】 イオン交換性のある新規な層状2次元複合体を提供しようというものである。【解決手段】 組成式が、一般式Z・R2NH(CH2)nSiO1.5および、一般式〔Z・R2NH-(CH2)nSiO1.5〕p〔R(CH2)jSiO1.5〕1-p(ここにNHR2は、4級アンモニウム塩基を示し、Rは、H、CH3、もしくは、CH3CH2、1≦n≦6、0≦j≦5、0<p<1を示す。Zは、塩素イオンなどのハロゲン元素陰イオン、硝酸イオンなど陰イオン)で表され、陰イオンと陽イオン性を示すポリシロキサンが2次元層状構造をとっており、かつ陰イオン交換性を示す層状ポリアミノアルキルシロキサン複合体を合成することによって解決した。【選択図】 図4
Claim (excerpt)：
繰り返し単位が、一般式;Z・R2NH(CH2)nSiO1.5(式中、NHR2は、アンモニウム塩官能基を示し、Rは水素原子あるいは炭素数1または2のアルキル基を表し、nは、1≦n≦6の数値範囲を示す。Zは、塩素イオンなどのハロゲン元素陰イオン、硝酸イオンなど陰イオンを表す)で表される組成を有し、陰イオンZと繰り返し単位R2NH(CH2)nSiO1.5で構成されるポリシロキサンはイオン対をもってロッド状を形成し、このロッド状ポリマーが平行且つ密に配列、積層して2次元層状構造を形成した、陰イオン交換性を有してなる層状ポリアミノアルキルシロキサン複合体。
IPC (6)：
C08G77/26 ,  B01J41/12 ,  B01J47/12 ,  B82B1/00 ,  C08K7/00 ,  C08L83/08
FI (6)：
C08G77/26 ,  B01J41/12 Z ,  B01J47/12 D ,  B82B1/00 ,  C08K7/00 ,  C08L83/08
F-Term (41)：
4J002AA00W ,  4J002CP09X ,  4J002FD01X ,  4J002GB00 ,  4J002GH00 ,  4J002GL00 ,  4J002GT00 ,  4J246AA03 ,  4J246AB20 ,  4J246BA12X ,  4J246BA120 ,  4J246BA16X ,  4J246BA160 ,  4J246BB02X ,  4J246BB020 ,  4J246BB022 ,  4J246CA14X ,  4J246CA140 ,  4J246CA230 ,  4J246CB02 ,  4J246FA071 ,  4J246FA131 ,  4J246FA421 ,  4J246FA422 ,  4J246FA802 ,  4J246FB041 ,  4J246FB043 ,  4J246FB051 ,  4J246FB053 ,  4J246FE04 ,  4J246FE31 ,  4J246GA06 ,  4J246GB22 ,  4J246GB32 ,  4J246GC51 ,  4J246HA20 ,  4J246HA22 ,  4J246HA53 ,  4J246HA56 ,  4J246HA66 ,  4J246HA70
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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