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J-GLOBAL ID：200903046538752270
ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク及びハーフトーン型位相シフトマスク及びそれらの製造方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996322521
Publication number (International publication number)：1998161294
Application date： Dec. 03, 1996
Publication date： Jun. 19, 1998
Summary：
【要約】【課題】従来のハーフトーン型位相シフトマスクの欠点を解消するために、半透明膜を単一金属化合物薄膜すなはち酸化ジルコニウムシリサイド膜で形成したハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク及びハーフトーン型位相シフトマスク及びそれらの製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】透光性基板1上にジルコニウムシリサイドターゲットを反応性スパッタさせて酸化ジルコニウムシリサイド膜からなる半透明膜2を設け、ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランクを作製し、該半透明膜2をパターン化して半透明膜パターン2aからなるハーフトーン型位相シフトマスクを作製する。
Claim (excerpt)：
透光性基板上に半透明膜を形成してなるハーフトーン型位相シフトマスク用ブランクにおいて、前記半透明膜がジルコニウムシリサイド化合物薄膜よりなることを特徴とするハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク。
IPC (2)：
FI (2)：
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 502 P
