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J-GLOBAL ID：200903046549413957

細砂緩速ろ過装置及びその方法

Inventor： 高橋 孝輔 ,  村上 光正
Applicant, Patent owner： 株式会社開発興業 ,  村上 光正
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002085195
Publication number (International publication number)：2003275782
Application date： Mar. 26, 2002
Publication date： Sep. 30, 2003
Summary：

【要約】【課題】薬品を用いず、標準的な緩速ろ過法よりも維持管理が簡単で、安全な浄水を得るための砂ろ過装置とその方法を提供する。特に汚濁が激しくないが微細な腐葉や大雨時に濁水となる原水も浄化できる装置を提供する。【解決手段】砂ろ過装置のろ過最下部に集水・分水部2を設け、その上に栗石層3と砂利層4もしくは穴あき板を形成し、さらにその上に、粒径0.05〜0.2mmの細砂を充填した細砂層5を形成する。この細砂緩速ろ過装置1に、原水をろ過速度2〜100m/日で流し、目詰まり時には細砂部分を逆洗して再生する。逆洗タイミングは、タイマー、若しくはろ過時の圧力損失によって決定する。

Claim (excerpt)：

河川や地下などから取水した水をろ過して飲料水又は洗浄水を生成する緩速ろ過装置において、粒径0.05〜0.2mmの細砂を充填して、3〜150cmの厚さの細砂層を該緩速ろ過装置の砂利層の上に配置し、該取水をろ過速度2〜100m/日で通過させて該飲料水又は該洗浄水を生成し、該細砂層の目詰まり時には該細砂層を30〜500m/日の速度で逆洗再生する逆洗装置を配設することを特徴とする細砂緩速ろ過装置及びその方法。

IPC (7)：

C02F 3/06 ,  B01D 24/02 ,  B01D 24/46 ,  B01D 24/48 ,  B01D 29/60 ,  C02F 1/00 ,  C02F 3/10

FI (6)：

C02F 3/06 ,  C02F 1/00 H ,  C02F 3/10 A ,  B01D 23/16 ,  B01D 23/24 B ,  B01D 23/26 Z

F-Term (21)：

4D003AA01 ,  4D003AB11 ,  4D003CA02 ,  4D003DA01 ,  4D003DA22 ,  4D003DA25 ,  4D003EA01 ,  4D003EA14 ,  4D003EA22 ,  4D003EA38 ,  4D003FA02 ,  4D003FA05 ,  4D041BA01 ,  4D041BB04 ,  4D041BB08 ,  4D041BB14 ,  4D041BC12 ,  4D041BC15 ,  4D041BD17 ,  4D041CA08 ,  4D041CB03

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 緩速濾過用前処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-216066   Applicant：株式会社開発興業