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J-GLOBAL ID:200903046577877730

合金薄膜の形成装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 長谷川 芳樹 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993052179
Publication number (International publication number):1994264244
Application date: Mar. 12, 1993
Publication date: Sep. 20, 1994
Summary:
【要約】【目的】 各原料ガスの混合割合の変動を抑えると共に、混合割合の制御性を向上させる合金薄膜の形成装置を提供することにある。【構成】 本形成装置は、化学気相成長によって合金薄膜を形成する反応容器10とバブラー容器20、30を備える。バブラー容器20には、粘性の高いDMAH(ジメチルアルミニウムハイドライド)21が封入され、バブラー容器30には添加原料となるCpCuTEP(=C5 H5 CuP(C2 H5 )3 )31が封入されおり、この2つのバブラー容器を直列に接続することにより、各原料ガスを混合し、反応容器10内に供給する。
Claim (excerpt):
反応容器内に所定の原料ガスを供給し、化学気相成長によって合金薄膜を形成する合金薄膜の形成装置において、前記形成装置は、高粘性を有する原料を封入した第1収容体と、この原料と混合すべき原料を封入した第2収容体とを備えており、前記各原料のうち、加熱すべき温度が低い原料を封入した一方の前記収容体にキャリアガスを供給すると共に、この収容体において発生した原料ガス及び前記キャリアガスを、他方の前記収容体に供給し、この他方の収容体において混合された前記原料ガス及び前記キャリアガスを、前記反応容器内に導入してなる合金薄膜の形成装置。
IPC (4):
C23C 16/44 ,  H01L 21/285 ,  H01L 21/285 301 ,  H01L 21/3205

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