光断層画像化装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：柳田征史 , 佐久間剛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005289123
Publication number (International publication number)：2007101267
Application date： Sep. 30, 2005
Publication date： Apr. 19, 2007
Summary：

【課題】光コヒーレンストモグラフィー計測において、測定開始位置の調整を短時間かつ簡便に行う。【解決手段】制御手段70は、測定対象Sの深さ方向の断層画像の取得を開始する測定開始位置を調整する測定開始位置調整モードと、測定対象の断層画像を取得する画像取得モードとを切り替える機能を有している。そして、制御手段70は、画像取得モード時には光源ユニット10がレーザ光源10Aからレーザ光Lを射出し、干渉光検出手段40および画像取得手段50がレーザ光Lによる干渉光L4を検出するように制御する。一方、測定開始位置調整モード時には制御手段70は光源ユニット10の低コヒーレンス光源10Bが低コヒーレンス光L10を射出し、干渉光検出手段40および画像取得手段50が光路長調整手段20における光路長の調整により各深さ位置の低コヒーレンス光L10による干渉光L4を検出するように制御する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

測定対象の断層画像を取得する光断層画像化装置において、波長を一定の周期で掃引させながらレーザ光を射出するレーザ光源と、低コヒーレンス光を射出する低コヒーレンス光源とを有する光源ユニットと、該光源ユニットから射出された前記レーザ光もしくは前記低コヒーレンス光を測定光と参照光とに分割する光分割手段と、該光分割手段により分割された前記測定光または前記参照光の光路長を調整する光路長調整手段と、前記光分割手段により分割された前記測定光が前記測定対象に照射されたときの該測定対象からの前記反射光と前記参照光とを合波する合波手段と、該合波手段により合波された前記反射光と前記参照光との干渉光を検出する干渉光検出手段と、該干渉光検出手段により検出された前記干渉光を周波数解析することにより前記測定対象の各深さ位置における前記測定光の反射強度を検出し前記測定対象の断層画像を取得する画像取得手段と、前記測定対象の深さ方向について断層画像信号を得る位置を調整する測定開始位置調整モードと、前記測定対象の断層画像を取得する画像取得モードとを切り替える制御手段とを有し、該制御手段が、前記画像取得モード時には、前記レーザ光を射出するように前記光源ユニットを制御するとともに、該レーザ光による前記干渉光から前記断層画像信号を取得するように前記画像取得手段を制御し、前記測定開始位置調整モード時には、前記低コヒーレンス光を射出するように前記光源ユニットを制御するとともに、前記低コヒーレンス光による前記干渉光から前記断層画像信号を取得するように前記画像取得手段を制御するものであることを特徴とする光断層画像化装置。

IPC (3)：

G01N 21/17 , A61B 10/00 , A61B 1/00

FI (4)：

G01N21/17 625 , G01N21/17 630 , A61B10/00 E , A61B1/00 300D

F-Term (23)：

2G059AA05 , 2G059AA06 , 2G059BB12 , 2G059CC16 , 2G059EE02 , 2G059EE09 , 2G059FF02 , 2G059GG01 , 2G059GG03 , 2G059GG09 , 2G059GG10 , 2G059HH02 , 2G059JJ11 , 2G059JJ13 , 2G059JJ17 , 2G059JJ22 , 2G059LL01 , 2G059MM01 , 2G059MM09 , 2G059PP04 , 4C061BB08 , 4C061GG11 , 4C061HH52

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

光イメージング装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-374702 Applicant：オリンパス光学工業株式会社
米国特許第5565986号明細書

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